高温束源炉介绍

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束源炉是一种蒸发镀膜装置是在高真空条件下，超高真空观察窗厂家，通过加热材料的方法，使坩埚中被蒸发物在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，可用于镀半导体、金属膜，超高真空观察窗价格，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积。

加热效率高，温度测量控制重复性好，并且可以准确调节。钽灯丝的优化设计确保了加热稳定性，即使在极限温度下也可以具有很长的使用寿命。

CF50高温束源炉

CF50高温束源炉是MBE专用的可加热至1600℃-1900℃。采用外水冷套结构，加热效率高，温度测量控制重复性好，并且可以调节。钽灯丝的优化设计确保了加热稳定性，即使在极限温度下也可以具有很长的使用寿命。用于低蒸汽压的元素和化合物材料薄膜沉积，例如Fe，Cr，Ni，Co，超高真空观察窗定做，Au，超高真空观察窗，Ge等材料，以及表面科学分析和磁性或氧化物薄膜沉积。

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磁 控 靶

磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面

(1)对于大面积表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；

(2)当膜层材料为***时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该***的利用率.从靶结构上分为:圆形平面靶/柱状靶/矩形靶/

常规圆形平面靶规格:

1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各类磁控靶

2.永磁靶（可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；

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