电子束结构介绍

粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，如导向磁铁、聚焦磁铁、多极校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，DZS450型电子束蒸发镀膜机销售，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。随着科学技术的不断发展，DZS450型电子束蒸发镀膜机厂家，根据科学家对粒子能量和流强的不同要求，陆续产生了不同原理、不同结构的多种增速器。

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电子束蒸发镀膜机的用途

电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，电子束蒸发镀膜机，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.

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电子束镀膜与电阻镀膜的区别

电子束蒸镀与利用电阻进行蒸镀的优势在于：可以为待蒸发的物质提供更高的热量，因此蒸镀的速率也更快；电子束***准确，可以避免坩埚材料的蒸发和污染。但是由于蒸镀过程中需要持续水冷，对能量的利用率不高；而且由于高能电子可能带来的二次电子可能使残余的气体分子电离，也有可能带来污染。此外，大多数的化合物薄膜在被高能电子轰击时会发生分解，这影响了薄膜的成分和结构 。

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