脉冲激光沉积的应用领域
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脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物,氮化物,硫化物薄膜,金属薄膜,磁性材料等。
应用领域:
单晶薄膜外延(SrTiO3,LaAlO3)
压电薄膜(PZT,AlN,BiFeO3,BaTiO3)
铁电薄膜(BaTiO3,KH2PO4)
热电薄膜(SrTiO3)
金属和化合物薄膜电极(Ti,Ag,PLD300A型激光镀膜设备供应,Au,Pt,Ni,Co,SrRuO3,LaNiO3,pld300型激光镀膜设备供应,YZrO2,GdCeO2,LaSrCoFeO3)
半导体薄膜(Zn(Mg)O,AlN,SrTiO3)
高K介质薄膜(HfO2,CeO2,Al2O3,BaTiO3,SrTiO3,PbZrTiO3,LaAlO3,Ta2O5)
超导薄膜(YBa2CuO7-x,BiSrCaCuO)
光波导,光学薄膜(PZT,AlN,激光镀膜设备供应,BaTiO3,Al2O3,ZrO2,TiO2)
超疏水薄膜(PTFE)
红外探测薄膜(V2O5,PLD450型激光镀膜设备供应,PZT)
脉冲激光沉积介绍
脉冲激光沉积,是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料合成时,工作压力的动态范围很宽,达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度,可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。
另外,PLD 是一种“数字”技术,在纳米尺度上进行工艺控制(A°/pulse)。
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脉冲激光沉积细节介绍
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力(gt;100 Torr)下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。
Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°,保持了激光密度在靶材上的均匀性,同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点,导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体,消除油的回流对薄膜质量的影响,所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离,对沉积条件进行较大的控制。
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