脉冲激光沉积的应用领域

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脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

应用领域：

单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）

铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

热电薄膜（SrTiO3）

金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，PLD450型激光镀膜设备报价，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）

高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，激光镀膜设备报价，Ta2O5）

超导薄膜（YBa2CuO7-x，pld300型激光镀膜设备报价，BiSrCaCuO）

光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

超疏水薄膜（PTFE）

红外探测薄膜（V2O5，PZT）

脉冲激光沉积机制

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PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及膜的生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段：

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 熔化物质在基片的沉积

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成。

脉冲激光沉积的优点

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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；

3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；

4. 发展潜力巨大，具有极大的兼容性；

5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

激光镀膜设备报价-沈阳鹏程真空技术公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司（www.pengchengzk.com）为客户提供“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”等业务，公司拥有“鹏程真空”等品牌。专注于成型设备等行业，在辽宁 沈阳 有较高知名度。欢迎来电垂询，联系人：董顺。