电子束镀膜设备介绍

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电子束蒸镀（Electron Beam Evaporation）是物***相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以精准地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀可以镀出高纯度的薄膜。

电子束蒸发镀膜机的用途

电子束蒸发沉积镀膜设备，具有有机材料沉积和金属材料沉积成膜功能。它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，在衬底上沉积各种金属或合金电极并形成器件。作用：电子束蒸镀常用来制备Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蚀和耐高温氧化膜。可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积.

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电子束蒸发镀膜的优势

电子束蒸发的优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一枪多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。

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