正在镀膜过程中，由于工件内气体加热膨胀，容易使已经镀上的膜层裂开，当然这个情况出现的机率视工件本身物理性质有关，像塑料等容易膨胀的，机率就比较高，像金属等硬质的，机率就比较低，但也不能忽视，因此工件的除气是非常必要的。通常我们使用的工件除气方法是烘烤，通过加热把工件内的气体、水分排出，在镀膜前，抽气的同时，对工件进行加热，当工件内水分和气体由于加热而放出后，随着真空室内的气体一起被真空泵抽出。用这种方法来进行真空镀膜，薄膜效果也会不同，虽然我们的眼睛无法直接看出，但是它有一定的优势。

真空镀技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。一般镀件表面都存在微观不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填补镀件表面的缺陷，使镀件表面达镜面平整度。

真空镀膜机溅射和蒸发有什么区别？

蒸发加热目标表面成分自由基或离子形式被蒸发，并在衬底表面处理，成膜过程（散射-岛结构的迷走***结构层状生长）形成薄膜。

蒸发镀膜成分均匀性不易保证，与特定的因素可以控制，但由于有限的原理，对非单组分涂料，蒸发镀膜成分均匀性不好。 溅射可以简单地理解为电子或高能激光轰击目标的使用，使得表面成分的自由基或离子形式溅射，并沉积在衬底表面的成膜过程中，经验，***终形成薄膜。真空镀膜机的设备 溅射被分为许多类型，在溅射速率不同点和蒸发将成为一个主要的参数。高反射膜从大口径的天文望远镜和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜茉莉，都很需要。