溅射技术的成就之一是磁控溅射。由于在磁控溅射中引入了正交电磁场使离化率提高到5~6%。于是溅射速率比三级溅射提高10倍左右，沈阳真空设备，对许多材料，溅射速率达到了电子束蒸发的水平。

控溅射具有“低温”、“高速”两大特点。

磁控溅射是以磁场来改变电子的运动方向，并束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体的电离几率和有效的利用了电子的能量。因此，是正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。

所以磁控溅射具有“低温”“高速”这两大特点。

磁控溅射设备的主要用途：

各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。

时沿装饰领域的应用，沈阳真空设备厂家，如各种全反射膜及半透明膜等，如手机外壳，鼠标等。

在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，沈阳真空设备采购，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得面积非常均匀的薄膜。

在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

不论是用***还是其他溶剂清洗的真空泵件，沈阳真空设备哪家好，一定要等到***或溶剂彻底挥发了才能进行装配。真空泵油若与其他的油或溶剂或水混合会***其性能，影响真空泵的性能指标。胶圈要擦干净，仔细检查有无缺陷和裂纹，尺寸是否正确，尺寸不对将影响密封。凡是有加热位置的胶圈，每次拆卸清洗时必须换，比如油增压泵各个接口，装配时泵件同样需要轻拿轻放;紧螺丝时用力要均，要从对角紧起。

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