真空镀膜技术

真空与镀膜结合改变了以往的镀膜工艺，转变了镀膜技术，实现自动化镀膜功能，特别智能化，沈阳真空设备谁家好，也便于维护，一个按键就能完成自动开关机生产，减少了人力资源成本；***后，结合真空的特色镀膜设备不必担心产品镀膜过程受杂质影响问题，在完全真空条件下镀制均匀、致密、附着力强的膜层，使用多种技术满足不同产品镀膜要求。在真空镀膜技术还未出现的时候，沈阳真空设备，用的是化学电镀技术，沈阳真空设备厂，此种技术污染太大，科研学者一直希望研发能代替的镀膜技术。

化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，沈阳真空设备生产厂，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。

晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，

主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。

真空镀膜机厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整。

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