干燥及置换前,与干燥及置换相 关的所有储罐系统应完工,且必须经各相关单位等联合检查,并签字确认。
(I) 储罐安装、罐内接管安装、保冷安装、珍珠岩填充、罐内接地、仪表回路等工作完成确认g
(2) 完成低压泵安 装工作,对储罐进行封闭确认:
(3) 安全阀 和破真 空阀 按规定调 校完 毕并上 报相关资料
其隔离阀锁开。
现场施工其它工作准备
(I) 现场确保储罐顶部 、楼梯和地面有充分照明以便夜间操作g
(2) 氮气干燥和l置换区域周围设置标志,禁止未 ***人员进入置换现场 z
(3) 所有阅门按氮气干燥和置换要求 挂牌标识状态,必要时上锁保 护。
临时液氮气化系统的安装准备
(I) 液氮储罐的安装,按一般静置 设备基本要求进行 ,保证设备的垂直度符合要求;
(2) 临时气化器、加热器安装s
3 )临时 液氮气化系统管线安 装及与系统氮气相连管道安装;
(4) 整个临时系统管 线的压力试验符 合要求。
干燥和置换工艺流程及区域划分
工艺流程
液氮气化系统的安装→ l临时氨气管线安装→液氮气化→储罐 A 区置 换→储罐 B 区置换 →储罐 C 区 置换 →储罐 D 区 置换→储罐进行加减压干燥置换→干燥和置换合格确认
储罐内部置换区域划分
(1)性气体
把自燃、、可燃气体等都定义为这类气体。如常温下的SiH4气体只要与空气接触就会燃烧,管道氮气置换,当环境温度达到一定时,管道氮气置换方案,PH3与B2 H6等气体也会产生自燃。可燃气体都有一定的着火燃烧范围,即上限、下限值。此范围越大的气体起燃烧***性就越高,如B 2H6的上限为98%,下限为0.9%。属于气体有H 2,NH3,PH3,DCS,ClF3 。
(2)毒性气体(Toxic Gas):半导体制造行业中使用的气体很多都是对******、***的。其中又以AsH3, B 2H6,PH3等气体的毒性***大,它们的阈限值TLV(Threshold Limited Valve)分别只有50×10-9,100×10 -9,300×10-9。这些气体在工作环境中的允许浓度极微,因此在贮存、输送以及使用的过程中都要求特别的小心。一般都应该采取特定的技术措施来控制使用这些气体。NO, ***F6,C5F8 ,NF3,CH 3F等都属于毒性气体。
(3)腐蚀性气体(Corrosive Gas):这些腐蚀性气体通常同时也兼有较强的毒性。腐蚀性气体在干燥状态下一般不易侵蚀金属,但在遇到水的环境下就显示出很强的腐蚀性,如HCl, HF, PCl3, SiF4,ClF3,WF6等。
(4)惰性气体(Inert Gas): 隋性气体本身一般不会直接对***产生伤害,管道置换氮气,在气体传输过程中,相对于安全上的要求不如以上其他气体严格。但惰性气体具有窒息特性,在密闭空间若发生泄漏会使人窒息而造成事故。属于这类的气体有C2 F6,CF4,SF6,CHF 3等。
(5)氧化性气体(Oxide Gas):这类气体有较强的氧化性,一般同时具有其他特性,如毒性或腐蚀性等。属于这类的气体有ClF3 ,Cl2,NF3等。
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