




PVD是英文Physical VaporDeition(物***相沉积)的缩写,是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色,并改善耐磨、耐腐蚀性,延长寿命。即可在金属工件上镀非金属或金属,也可在非金属上镀金属或非金属,甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。
在靶材和衬底之间加上一个直流高压,极板间的气体(一般为Ar2)电离,高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。要保持自持放电,在两极板间距为数厘米的正常溅射间距下,放电气压一般高达10帕,这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量,使颜色得以量化,以确定所镀出的颜色是否满足要求。因此,直流溅射多采用非自持放电,也就是加入热电子发射极和辅助阳极的四极溅射,可使溅射在10-1~10-2帕的低气压下进行。
镀层附着性能好
普通真空镀膜时,在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层,好似截然分开。而离子镀时,离子高速轰击工件时,能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,对离子镀后的试件作拉伸试验表明,一直拉到快要断裂时,镀层仍随基体金属一起塑性延伸,无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固,膜层均匀,致密。用途:特适合加工不锈钢、钛合金、沉淀硬化不锈钢、铜合金、铝合金。
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