电子束蒸发镀膜

利用高速电子束加热使材料汽化蒸发，在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2，可达到3000℃以上，可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。

电子束加热的蒸镀源有直枪型电子枪和e型电子枪两种(也有环行)，电子束自源发出，***镀钛厂家报价，用磁场线圈使电子束聚焦和偏转，对膜料进行轰击和加热。

溅射技术:

溅射技术按产生等离子体的方式可分为:

a. 利用直流辉光放电的二极溅射;

b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;

c. 利用射频放电的射频溅射;

d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.

2 磁控溅射阴极结构:

目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a)，一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b)，两者相比，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低.

整卷镀色的优势：

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