废气处理设备的种类有：

1、吸收设备　　吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对VOCs进行吸收，光解废气处理设备原理，再利用VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离。

2、吸附设备　　在用多孔性固体物质处理流体混合物时，流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上，此现象称为吸附。

3、有机废气的燃烧及催化净化设备 燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效，其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧，大多数生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。

4、工业有机废气的低温等离子体的治理设备　　等离子体就是处于电离状态的气体。

废气处理设备工作原理

废气处理塔的废气进口与洁净空气出口之间依次设有分流器、分离球、喷淋头、除雾区；废气处理塔下方还设有水箱，喷淋头与水箱通过水管连通；废气处理塔底部设有溢流口，并连接有排水管道；水箱还连接有自动加药机。其优点在于废气进入废气处理塔后，依次通过分流器分流、分离球杂质的吸附、喷淋头喷水净化、除雾区除雾，同时设置自动加药机，加入中和药液随喷淋头喷洒，光解废气处理设备厂家，中和废气中的有***体，对废气进行较全的处理，能够将废气洁净效果达到较大化，废气处理效果好。

半导体废气处理设备

废气介绍：由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和***废气。

废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，莱芜光解废气处理设备，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。

废气处理设备处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统。

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