根据不同类型的废气和不同地区的排放标准所采用的废气处理工艺都有所不同。

有生物除臭设备、催化燃烧设备、植物液喷淋设备、低温等离子废气处理设备、光催化设备、化学吸收等，主要看是什么工艺。

1.常见废气处理预处理设备主要就是：

干式和湿式，干式：滤筒、滤袋、玻纤喷雾毡；

湿式：洗涤塔、无泵水帘。

2.废气处理设备：

低温等离子。

活性炭吸附。

光催化裂解。

RTO焚烧炉。

RCO催化燃烧。

生物分解。

半导体废气处理设备

废气介绍：由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和***废气。

废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。

废气处理设备处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统。