半导体废气处理设备

废气介绍：由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和***废气。

废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，工业废气处理设备厂家，造成环境污染的公害事件等，小型工业废气处理设备价格，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。

废气处理设备处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统。

VOCS废气处理设备

活性炭过滤器由箱体和装填在箱体内的吸附单元组成，采用具有高吸附能力的椰壳活性炭作为吸附料，能够同时处多种混合废气，经济实用型有机废气的净化与治理装置；是一种废气过滤吸附异味的环保设备产品。活性炭吸附设备是具有吸附效率高，起到净化作用，是净化废气的好设备。

活性炭吸附箱里面的活性炭的吸附能力和与水气的接触时间成正比，接触时间越长，过滤后的效果越佳。

有机废气处理设备

燃烧法

废气处理设备用燃烧方法消除***气体、蒸气或***，使其变为无害物质的过程，工业废气处理设备，称为燃烧净化，燃烧净化时所发生的化学作用主要是燃烧氧化作用及高温下的热分解。有机气态污染物燃烧氧化的结果，工业废气处理设备价格，生成了CO2和H2O。燃烧净化方法分为直接燃烧和热力燃烧。

催化燃烧法

废气处理设备催化燃烧是典型的气-固相催化反应，其实质是活性氧参与的深度氧化作用。在催化燃烧过程中，催化剂的作用是降低活化能，同时催化剂表面具有吸附作用，使反应物子富集于表面提高了反应速率，加快了反应的进行。借助催化剂可使有机废气在较低的起燃温度条件下，发生无焰燃烧，并氧化分解为CO2和H2O，同时放出大量热能。该工艺具有处理效率高，无二次污染。但该工艺***较大，对有机废气的有机物的浓度有一定的要求及经营管理与操作水平要求较高等缺点。因此在选用中受到了相应的限制。

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