在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。 到目前为止，在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。 实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2A。 此外，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可 以受到较高的相对湿度的影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六二硅氮烷(HMDS)。

洁净室地面应符合下列规定

洁净室地面应符合下列规定： 1.洁净室地面应符合生产工艺要求。 2.洁净室地面应平整，耐磨、易清洗、不开裂、且不易积聚静电。 3.地面垫层宜配筋，潮湿地区垫层应有防潮措施。 洁净厂房技术夹层的墙壁和顶棚表面宜平整、光滑、位于地下的技术夹层应采取防水或防潮、防霉措施。 洁净室（区）和人员净化用室设置外窗时，应采用双层玻璃固定窗，并应有良好的气密性。 洁净室内的密闭门应朝向空气洁净度较高的房间开启，并应加设闭门器，无窗洁净室的密闭门上宜设观察窗。

各行业的洁净度等级做出这些要求：

1级净化车间：主要用于制造集成电路的微电子工业，对集成电路的要求为亚微米。10级：主要用于带宽小于2微米的半导体工业。

百级净化车间：可用于工业的无菌制造工艺等。

千级净化车间：主要用于高质量光学产品的生产，还用于测试，装配飞机蛇螺仪，装配高质微型轴承等。

万级净化车间：主要用于液压设备或气压设备的装配，某些情况下也用于食品饮料工业，此外，万级洁净室在医工业中也很常用。

十万级净化车间：十万级洁净室用于很多的工业部门，比如光学产品的制造，用于较小的元器件制造大型的电子系统，液压或气压系统的制造，食品饮料的生产工业也常常使用。

洁净***部水系统主要包括：给水、排水、热水、纯化水与高纯水（如水）。每个部分使用什么材质或者怎样设计都是有标准的。

饮用给水系统不应采用镀锌钢管，可采用给水塑料管（钢管内壁衬塑）、聚丙乙烯管（PPR）、无缝铜管、不锈钢管等；

排水系统常用聚、聚渌乙烯（PVC）材质；

热水系统的维持储存温度不低于60度，或循环温度在51度以上。材质常选用无缝铜管、不锈钢管、聚丙乙烯管（PPR）；

纯化水和高纯水管道采用不锈钢(SUS)；

洁净工程水系统在施工设计要前期配合、图纸技术和施工界面确认内容同步进行，在确保了方案以后开始施工。