高纯钛颗粒 生产制造厂家-宏钜金属-高纯钛
作者:宏钜金属2020/1/9 3:17:23





名 称:铬

符 号:Cr

原子量:51.9961

熔 点:1907℃

沸 点:2671℃

密 度:7.19g/cm3

高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点,可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。

我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉,并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶,具有纯度高、密度高、***结构优良、使用寿命长四大特点。

高纯铬 Cr 2N5 3N5 靶材 根据要求定制

高纯铬 Cr 3N5 4N 粉末 -200目

高纯铬 Cr 3N5 4N 片状 不规则片状

高纯铬 Cr 3N5颗粒 3-5mm

我公司可提供铬合金如铝铬合金,钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末,蒸发膜料及靶材合金及化合物

铬铝合金 AlCr 3N 靶材 颗粒

铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材

钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材

氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末






名 称:钴

符 号:Co

原子量:58.93

熔 点:1495℃

沸 点:2927℃

密 度:8.92g/cm3

钴为有光泽的银***金属,高纯钛颗粒 生产制造厂家,高纯钴是指纯度3N以上的金属钴。具有良好的半导体性质,磁性能及导电性能。高纯钴是制备磁记录介质,磁记录磁头,光电器件和磁传感器和集成电路等元器件的重要材料。

高纯钴主要用于制备纯金属靶材及合金靶材。另外高纯钴还可作为半导体薄膜材料使用。

高纯钴 Co 3N 4N 靶材 根据要求定制

高纯钴 Co 3N5 4N 5N 颗粒 片 1-10mm

高纯钴 Co 3N 3N5 粉末 -100目,-200目等

高纯钴 Co 3N 3N5 板状 根据要求定制

我公司可提供钴基合金如钴铬钨合金,钴钼合金,钴铁硼合金,可粉末冶金制作各种钴基合金靶材等合金及化合物

氧化钴Co2O3 CoO Co3O4

钴钼合金CoMo3N-3N5 靶材

钴铬钨合金CoCrW3N-3N5 靶材

钴铁硼合金 CoFeB 3N-3N5 靶材

钴铁硅合金 CoFeSi 3N-3N5 靶材

钴镍铝铬钇合金 CoNiAlCrY 3N-3N5 靶材






名 称:钼

符 号:Mo

原子量:95.94

熔 点:2623℃

沸 点:4639℃

密 度:10.22g/cm3

钼是银白色有光泽的金属,高纯度的钼一般纯度能达到99.95%,钛粒 高纯钛颗粒5N,主要应用于电子工业,半导体,4N5高纯钛颗粒钛蒸发颗粒,太阳能行业。我们可以提供高纯钼靶,纯度高,致密度好,晶粒小等,广泛用于太阳能电池电极镀膜,半导体行业。还可以提供蒸发用钼舟,高纯钛,钼丝,钼片。

高纯钼 Mo 3N 4N 靶材

高纯钼 Mo 3N5 片状 0.1-2mm,钼舟等

高纯钼 Mo 3N5 丝状 0.05-5mm

高纯钼 Mo 3N5 颗粒 1-10mm

我公司可提供钼铌合金,钴钼合金用于平面显示行业的镀膜,还可以提供氧化钼,硫化钼等化合物材料。

钼铌合金 MoNb 3N5 靶材

钴钼合金 CoMo 3N-3N5 靶材

氧化钼 MoO3 4N 靶材 粉末 颗粒

二硫化钼 MoS2 4N 靶材 粉末 颗粒

碳化钼 MoC 3N 靶材






高纯钛颗粒 生产制造厂家-宏钜金属-高纯钛由河北宏钜金属材料有限公司提供。行路致远,砥砺前行。河北宏钜金属材料有限公司(www.cnmetals.cn)致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴,更矢志成为其它具影响力的企业,与您一起飞跃,共同成功!

商户名称:河北宏钜金属材料有限公司

版权所有©2025 产品网