




名 称:钽
符 号:Ta
原子量:180.95
熔 点:2996℃
沸 点:5429℃
密 度:16.69g/cm3
钽为黑***金属,有耐腐蚀性和耐高温性。钽可以主要应用于电容器零件、光学和半导体用靶材、人造金刚石制备、合金添加剂等用途。
高纯钽靶 Ta3N5 4N
高纯钽粉末 -325目
高纯钽片 3N5片状
钽舟0.1-3mm
高纯钽丝状 0.1-5
高纯钽棒材
钽的化合物常见的有氧化钽,主要形态有靶材,颗粒,Al5N熔炼用蒸镀高纯铝颗粒,用于磁控溅射和光学薄膜方面,还可以提供钽钨合金,钽铌合金等有着良好的抗腐蚀和加工性能

名 称:铬
符 号:Cr
原子量:51.9961
熔 点:1907℃
沸 点:2671℃
密 度:7.19g/cm3
高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点,可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。
我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉,并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶,高纯铝,具有纯度高、密度高、***结构优良、使用寿命长四大特点。
高纯铬 Cr 2N5 3N5 靶材 根据要求定制
高纯铬 Cr 3N5 4N 粉末 -200目
高纯铬 Cr 3N5 4N 片状 不规则片状
高纯铬 Cr 3N5颗粒 3-5mm
我公司可提供铬合金如铝铬合金,钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末,蒸发膜料及靶材合金及化合物
铬铝合金 AlCr 3N 靶材 颗粒
铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材
钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材
氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末

名 称:钼
符 号:Mo
原子量:95.94
熔 点:2623℃
沸 点:4639℃
密 度:10.22g/cm3
钼是银白色有光泽的金属,高纯度的钼一般纯度能达到99.95%,高纯铝颗粒蒸发镀膜颗粒,主要应用于电子工业,半导体,太阳能行业。我们可以提供高纯钼靶,纯度高,致密度好,晶粒小等,广泛用于太阳能电池电极镀膜,半导体行业。还可以提供蒸发用钼舟,铝粒高纯铝粒铝颗粒铝块,钼丝,钼片。
高纯钼 Mo 3N 4N 靶材
高纯钼 Mo 3N5 片状 0.1-2mm,钼舟等
高纯钼 Mo 3N5 丝状 0.05-5mm
高纯钼 Mo 3N5 颗粒 1-10mm
我公司可提供钼铌合金,钴钼合金用于平面显示行业的镀膜,还可以提供氧化钼,硫化钼等化合物材料。
钼铌合金 MoNb 3N5 靶材
钴钼合金 CoMo 3N-3N5 靶材
氧化钼 MoO3 4N 靶材 粉末 颗粒
二硫化钼 MoS2 4N 靶材 粉末 颗粒
碳化钼 MoC 3N 靶材

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