名 称:钛
符 号:Ti
原子量:47.88
熔 点:1668℃
沸 点:3277℃
密 度:4.506g/cm3
高纯钛是指纯度在4N以上的金属钛,主要制备方法有:碘化法,熔盐电解法,电子束熔炼法,电子束区熔法等。
高纯钛主要用于半导体材料,溅射靶材,合金材料及超高真空装置中的吸气材料。
我公司可提供4N5,5N高纯钛,采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒,用于高纯度合金熔炼,蒸发镀膜等领域。
高纯钛靶材 高纯钛粉末 高纯钛颗粒 高纯钛棒状 高纯钛丝状 高纯钛片状
我们可提供钛氧化物,氮化物及其他化合物靶材,粉末等。
溅射靶材:二氧化钛靶材,金片,氮化钛靶材,钛酸锶晶体靶材,钛酸钡靶材等
光学镀膜材料:二氧化钛颗粒,五氧化三钛晶体颗粒等化合物及合金氧化钛TiO2
氮化钛TiN 硼化钛TiB2 钛酸锶SrTiO3 钛酸钡BaTiO3 钛铝合金Ti-Al 钛硅合金 钛钨合金
名 称:钨
符 号:W
原子量:183.85
熔 点:3410℃
沸 点:5900℃
密 度:19.3g/cm3
钨为银白色金属,高熔点金属。一般可以供靶材,片状,丝状,作为蒸发用加热子及其他用途。我公司提供钨靶,高纯金颗粒电子束蒸镀金颗粒,定制加工钨丝筐,钨螺旋,钨舟等。
高纯钨靶材 高纯钨粉末 高纯钨片状,高纯钨舟
可定制钨舟3N5-4N丝状 镀金钨丝0.1-2mm
可定制钨丝筐3N5颗粒6*6mm 可定制
钨化合物主要有氧化物,高纯金,及其他钨合金,如钛钨合金等。我公司可提供靶材,粉末等。
钛钨合金TiW
氧化钨WO3
碳化钨WC
硫化钨WS2
硒化钨WSe2
名 称:钴
符 号:Co
原子量:58.93
熔 点:1495℃
沸 点:2927℃
密 度:8.92g/cm3
钴为有光泽的银***金属,高纯钴是指纯度3N以上的金属钴。具有良好的半导体性质,磁性能及导电性能。高纯钴是制备磁记录介质,磁记录磁头,光电器件和磁传感器和集成电路等元器件的重要材料。
高纯钴主要用于制备纯金属靶材及合金靶材。另外高纯钴还可作为半导体薄膜材料使用。
高纯钴 Co 3N 4N 靶材 根据要求定制
高纯钴 Co 3N5 4N 5N 颗粒 片 1-10mm
高纯钴 Co 3N 3N5 粉末 -100目,高纯金粒 镀膜黄金颗粒Au5N,-200目等
高纯钴 Co 3N 3N5 板状 根据要求定制
我公司可提供钴基合金如钴铬钨合金,钴钼合金,钴铁硼合金,可粉末冶金制作各种钴基合金靶材等合金及化合物
氧化钴Co2O3 CoO Co3O4
钴钼合金CoMo3N-3N5 靶材
钴铬钨合金CoCrW3N-3N5 靶材
钴铁硼合金 CoFeB 3N-3N5 靶材
钴铁硅合金 CoFeSi 3N-3N5 靶材
钴镍铝铬钇合金 CoNiAlCrY 3N-3N5 靶材
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