公司在2015年成为科技型中小企业，并设立了院士工作站，目前主要开发和经营以下3类产品和服务：旋转机械状态监测和健康管理、光电视觉及环保检测、高精度几何量检测。相关技术打破国外垄断，技术水平达到国外同类产品的***水平。

随着近几年世界经济格局的变化和我国经济技术高速发展的趋势，我国的机械科学和制造系统也发生了新的变革。数字和智能化制造、微机电系统、极端制造、复杂机电系统、生物制造、绿色制造等新型机械系统、设计理念、制造工艺和技术正逐渐由概念走向成熟和工程应用，新的测量问题不断出现，测量在机械系统及制造过程的作用和地位不断提高，机械制造中测量技术的研究面临新的发展机遇和挑战。测量技术的***程度将成为我国未来制造业赖以生存的基础和可持续发展的关键。即使振动的振幅很微小，仅移动了亚原子级距离，使用这种新的等离子体激元技术也很容易检测到。我国测量技术和相关仪器的研究取得了一系列重要进展，新型测量原理、测量技术、测量系统及仪器设备不断出现：新型传感原理及传感器、***制造的现场、非接触、数字化测量，微纳米级超精密测量、超大尺寸精密测量、基标准及相关测量理论研究等方面都有了长足的发展。

随着超精密加工和微电子制造技术的迅速发展，对精密测量技术及仪器提出了在毫米级的测量范围内达到纳米级精度的要求，例如超精密数控加工精度已达纳米量级，微电子芯片制造技术已是纳米级制造工艺，因此无论是超精密数控机床的运动测量与***，还是集成电路芯片线宽等特征尺寸测量、光掩膜制作以及晶圆扫描工作台的运动测量与***，均需要纳米级精度的精密测量仪器。此外，精密测试计量技术领域中，各种扫描探针显微镜、激光干涉仪、光栅尺和其他位移传感器等也离不开纳米级精度的精密测量仪器的校准或标定。精准测量微观物体的微小位移的能力，可用于检测微量的***生物或化学***，完善微型机器人的运动，精准部署气囊，以及检测通过薄膜传播的极弱声波。

　提高分辨力一直是光刻技术发展的主旋律，由瑞利公式R=K1λ/NA可知，缩短波长是提高分辨力的有效手段。每次更短波长光刻的应用，都促使集成电路性能得到极大提升。

　光电所采用三角法测量，Z向位移转化为标记光栅与检测光栅横向位移ΔX，通过两光路的信号比对横向位移量ΔX进行检测，实现检焦。将纳米技术列入促进经济社会发展和解决重大问题的关键技术领域，在能源和生物等领域尤其受到重视。该方法的两光路结构设计相同，两信号相位相差，利用两光路的信号比求解硅片的离焦量，消除了光强波动的影响，实现了纳米级的检焦精度。