在清洗工艺中，去除刻蚀后的光刻胶残渣是半导体行业的一大技术难点，尤其是经过高浓度离子注入的光刻胶，注入的阳离子和光刻胶中的碳形成很强的化学键，使光刻胶表面高度交联，形成一层高度致密、耐腐蚀的碳化硬壳，大大增加了光刻胶的去除难度。

苏州晶淼半导体设备有限公司坚信 天道酬勤，商道酬信！精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务！

干法清洗：

　　对于已经氢还原的MCP,因为二次电子发射层已经形成,如果采用化学清洗或湿法清洗容易造成对MCP电性能的***,并可能产生清洗介质对MCP的再次污染。因此氢还原后的MCP,一般选用干法清洗,主要包括等离子清洗、辉光放电、紫外清洗等清洗技术。

传统真空干燥工艺的缺陷在哪？

超级电容、电容以及锂离子电池行业的众多生产厂家基本采用了传统的真空干燥方法。

这里指的传统真空干燥方法，是指单一真空干燥功能、单一工序的、打开密封门即进入大气环境的真空干燥方式。

这样大家就比较容易找到传统的真空干燥方法的缺点：就是从一个工序转移到下一道工序时，超级电容CELL在这个时间段又暴露在大气环境中，从而导致水份、空气再次进入CELL。

水份、空气再次导入CELL，从而在制造过程中就使超级电容CELL先天不足，提高MODULES的各项性能和技术指标亦然成为伪命

清洗机的优点

    超声波清洗机是利用超声波发生器产生的的超音频电信号,通过换能器的压电效应转换成同频率的机械振荡,并以超音频机械波的形式在清洗液中辐射.由于超音频机械波传播的正压区和负压区交替作用,产生无数超过1000个大气压的微小气泡,形成对清洗物表面的细微局部高压轰击,使物体表面及缝隙之中的污垢迅速剥落,这就是超声波清洗机所特有的“空化效应”.人们利用这一“空化效应”把超声波清洗机广泛的应用在:

     航空、航天;2铁路;3汽车、摩托车制造业;4光学器件;5液晶(lcd)制造;6电子制计算机;7微电子;8电子电器元器件;9五金冲压件;10机械的零件;11家电产品;12电镀,真空镀;13钟表、眼镜、珠宝;14电机,微电机;15容器类;16***器具;17***有效成份萃取;18维修清洗--各种设备,设施,交通运输车辆工具,家用电器维修中的除油,除尘,除垢清洗;印刷行业的胶辊、丝印网清洗,打印机喷头清洗,cd/vcd/dvd光盘等领域生产加工过程中或终端的除油、除蜡、粉尘,松香等污染物的清洗。