基于APM（NH4OH:H2O2:H2O）的化学材料在微粒去除方面仍占主宰地位，但如果没有兆频超声波强化，其作用就不是很有效。基于起初RCA（HPM：HCl:H2O2:H2O）配方的去除金属的化学材料差不多都放弃了。

      与洁净得多的抗蚀剂和化学材料结合在一起的创新化学是在这一领域成功的关键。此外，几何图形非常密集的器件制造的污染控制也推动了各种创新技术的研发，例如包括超临界CO2（SCCO2）清洗。

     RCA清洗法：依靠溶剂、酸、表面活性剂和水，在不***晶圆表面特征的情况下通过喷射、净化、氧化、蚀刻和溶解晶片表面污染物、有机物及金属离子污染。在每次使用***后都要在超纯水（UPW）中彻底清洗。以下是常用清洗液及作用。

苏州晶淼半导体设备有限公司精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求，真诚守信是我们的原则，我们的目标是提升中国湿制程设备制造水平和服务，成为湿制程设备供应商的典范！

清洗安全操作规范：

(1)操作前，一定要检查工作台通风是否良好，如有异常，向上级汇报或向动力保障部门说明情况，请求调整；

(2)在通风橱里开启***，并一定要戴上口罩、塑胶手套和防酸手套；

(3)***开启前,都必须将外面的塑料袋、橡皮筋取下并扔进垃圾桶；

(4)拧开***盖后，取下瓶口的塑封膜并扔进垃圾桶，在倾倒***时，一定要确定塑封膜是否在瓶上。

(1)有机废液和无机废液要回收严格分开，放入不同密封箱里；

(2)异bing醇和去胶液的温度已经固定，不得随意更改。如确有需要，向领班汇报，等待上级批准；

(3)***和混合溶液一定要等到冷却到30°C以下才能回收；

(4)溶液配制或回收时，溅到操作台上的溶液一定要用水冲干净，再用氮qi吹干，保持工作台的清洁、干净。