uv光解光催化净化设备

工艺原理及说明

1、UV光解光催化氧化净化工艺        

对于光解光催化氧化去除挥发性有机恶臭污染物的历程一般认为由以下两步：

1）紫外线照射有机恶臭气体分子链，将大分子切断裂解成小分子；

2）臭氧对被裂解的小分子气体进一步氧化；

紫外线，[ultr***iolet ray]，英文简称UV，是电磁波谱中波长从0.01—0.40微米（可见光紫端到X射线间）辐射的总称。在环保技术应用紫外光技术原理，除了有机恶臭废气处理，我们常见的还有污水处理上的紫外光杀菌、消毒。这里***介绍紫外光应用在有机恶臭废气处理中的技术特点。

泡沫镍既有上述金属镍的优良特性，即耐高温、抗腐蚀、化学性质稳定的特征，又具有泡沫金属独1特的三微网状结构。以它为基体，附载纳米二氧化钛开发而成的复合光催化泡沫金属滤网继承了泡沫镍的优点，超过95%的空隙率保证了良好的流体通透性、而在其表面分布均匀的光触媒材料比表面积大，表面覆盖率高，较大限度增大了与光触媒与紫外线的接触面。加之泡沫金属的三维特性，使得催化“反应腔”饱满，保证了其光催化效率。


要设置相应的排风管道和排风动力，将废气引导到合适的位置直接进行处理，不需要再添置其他辅助材料帮助其反应。uv光解设备无任何机械动作，没有噪音，不需专人管理和日常维护，只需定期检查，设备能耗低，（每处理1000立方米/小时，光催化氧化处理有机废气的主要原理是利用光催化剂锐钛型二氧化钛（TiO2），二氧化钛（TiO2）作为一种新的光催化半导体材料，近半个世纪以来的成功运用。为当今世界较先1进的空气净化新技术，光催化剂是光催化过程的关键部分，其活性的高低严重影响光催化效果。目前所用的光催化剂二氧化钛（TiO2）的光催化活性较高又不产生光腐蚀，且***价廉，是目前广泛使用的光催化剂。


光氧化是常温下深度光降解技术。该技术通过特定波长的UV激发光源产生不同能量的Light quantum；废气物质对该Light quantum的强烈吸收，在大量携能Light quantum的轰击下使废气物质分子解离和激发；空气中的氧气和水分及外加的臭氧在该Light quantum的（分解）作用下可产生大量的新生态氢、活性（游离）氧和羟基氧等活性基团。因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧，臭氧对紫外线光束照射分解后的有机物具有极强的氧化作用；部分废气物质也能与活性基团反应，终降解转化为低分子化合物、CO2和H2O 等无害物质，从而达到净化废气的目的。