






随着***的设备和工艺的发展,使纳米量级的测量成为可能。例如,变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度,目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域,已生产出线宽在亚微米量级的集成电路,提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。例如,用显微镜对图像进行高度放大的成像系统,显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果,在***过程中光学系统的每一部分(照明系统、样品、显微镜光学系统、成像光学系统和相纸平面)都准确地一同移动,不存在相对位移,成像也会很清晰。如果样品相对物镜产生了运动,则像就会模糊。在光学干涉测量、全息及运用相似的规律时,控制相对运动都是很重要的。

精密光学平台质量标准:
*选用精良,极其耐用的材料
*表面经过阳极氧化的精密加工
*极为小的机械公差设计
*光学元件和机械系统的扩展
精密光学平台应用场景:适合于光通讯、电子制造、***器械、科研院校、显微镜、光路测试、光学测量、激光干涉、激光扫描、光谱实验等领域应用。
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