碳化硅硅冶炼生产中尽管注意了选用比较纯净的原料，但炉料中杂质的含量仍有0.5--2%，电工碳化硅冶炼炉中，杂质的含量更可高达5%。这些杂质主要是铝、铁、钙的氧化物，他们对碳化硅冶炼的进程及冶炼出的成品都有重要影响。

氧化铁（Fe2O3）

   氧化铁被还原成全属，在12001时这种金属在炉料内呈单独的细点状。随着温度升高到1600--1650°C，金属的流动性加大了，因而这种细点就溶合在炉料的颗粒上了。这时，和碳素材料颗粒相接触的铁点溶解了碳。因此不仅在气相和固相之间，而且也在气相和液相之间发生生成碳化硅的反应。这不但加快了生成碳化硅的过程，而且还促使碳化硅结晶成形状比较规则的固体。

碳化硅是一种人工合成的碳化物，分子式为SiC。通常是由二氧化硅和碳在通电后2000℃以上的高温下形成的。  

化性

当碳化硅材料在空气中加热到1300℃时，在其碳化硅晶体表面开始生成二氧化硅保护层。随着保护层的加厚，阻止了内部碳化硅继续被氧化，这使碳化硅有较好的化性。当温度达到1900K(1627℃)以上时，二氧化硅保护膜开始被***，碳化硅氧化作用加剧，所以1900K是碳化硅在含氧化剂气氛下的高温。

电学性质

常温下工业碳化硅是一种半导体，属杂质导电性。高纯度碳化硅随着温度的升高电阻率下降，含杂质碳化硅根据其含杂质不同，导电性能也不同。碳化硅的另一电性质是电致发光性，现已研制出实用器件。

1、碳化硅是什么？     碳化硅是由硅(Si)和碳(C)组成的化合物半导体材料。其结合力非常强，在热、化学、机械方面都非常稳定。碳化硅存在各种多型体（多晶型体），它们的物理特性值各有不同。4H-碳化硅适用于功率元器件。下表为Si和近几年经常听到的半导体材料的比较。

2、碳化硅有什么用？      以碳化硅为代表的第三代半导体大功率电力电子器件是目前在电力电子领域发展快的功率半导体器件之一。碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表，也是目前晶体生产技术和器件制造水平成熟，应用广泛的宽禁带半导体材料之一，目前在已经形成了的材料、器件和应用产业链。是高温、高频、抗辐射、大功率应用场合下极为理想的半导体材料。由于碳化硅功率器件可显著降低电子设备的能耗，因此碳化硅器件也被誉为带动“新能源革命”的“绿色能源器件”。

使用碳化硅后的铸铁效果是：

1.铸件白口发生减少，硫渣造成的缺陷降低。

2.石墨球数增加，缩松倾向减小，时间增长。

3.同时为铸件生产降低了不少成本，提高了生产效益。

       当然碳化硅球的优点还有很多，这里就不多介绍，因此大家在选择铸造材料时，就应选择复合铸件发展市场和节奏的产品---碳化硅。碳化硅，碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅碳化硅