真空电镀的优点及工艺特点

　　1、电镀：起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(***铜等)及增进美观等作用。

　　2、真空镀：通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较产品的功能性镀层。真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求，简单一点真空电镀供应

真空电镀的原理是什么，我们都一起来看看吧，真空电镀原理：? 一般而言，镀膜在真空镀膜机内以真空度?1~5?x?10?-4?Torr程度进行?(1?Torr?=?1?公厘柱高的压力，大气压为?760?Torr)。一般真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀.由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，并且会出现气泡，水泡等不良状况.喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现。真空电镀供应


真空电镀的前处置在电镀技术中十分关键基体资料外表存在着很多的油污、锈蚀产品等污物，电镀层不能直接与基体资料外表相联系，然后致使镀层的逐渐起皮、掉落等，这也是镀层与基体资料外表联系力不良的原因。相反，若是在电镀前，电镀出产线上的基体资料外表得到了的清洗，电镀层就会直接接触到基体资料的外表，并与之结实联系。真空电镀供应

　　真空电镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属，通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低( 10-5Pa )。

　　镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。真空电镀供应