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离子渗氮:可以在辉光放电条件下,将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、等性能和耐腐蚀性,相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控,可用于各种钢铁及钛合金结构件,各种模具和各种不锈钢制品。 等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮,氮碳共渗) 等离子体化学气相沉积(PCVD)是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。
真空UV电镀价格真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜(镀铝、铬、锡、不锈钢等金属)、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。真空镀加工的等离子扩渗镀膜设备及技术;
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真空电镀生产的滚镀过程中需注意的事项及时调整主盐浓度
滚镀溶液中主盐消耗较快,这主要是阳极面积常常不足,工件出槽时损耗较多等原因引起的。主盐含量过低时会引起电流效率下降,镀层难以镀厚,为此需根据化验分析数据及时予以调整。
滚镀件预处理难度大
滚镀件只能在篮筐里预处理,难免有重叠,故难以除尽污物。因而滚镀溶液易受污染,由于滚镀溶液对杂质较敏感,故溶液的净化处理工作量较大,往往容易因此而耽误生产。
滚镀溶液的pH值变化大
pH值的变化尤其在滚镀镍时更为明显。这是因为滚镀镍过程中局部部位析氢激烈。为维护生产,pH值需要勤调。
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