真空电镀是要蒸发的物质在真空条件下被蒸发器加热，蒸发并输送到基底上，并在基底上冷凝形成固体膜的过程。与其他气相沉积技术相比，真空电镀具有许多优点:设备简单，操作方便；制备的薄膜纯度高，成膜速度快；薄膜生长机理简单，易于控制和模拟。

真空电镀技术的缺点:难以获得晶体结构的薄膜；沉积的薄膜与基底之间的附着力差；工艺重复性不够好。

电镀件镭雕工艺

镀膜制造需要部分耗材

　　1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用

　　2.TIO2颗粒

　　3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ

　　4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用

　　5.铜坩埚,需要根据机台配置选用

　　6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm

　　7.电子灯丝,需要根据机台配置选用

　　8.离子源,需要根据机台配置选用耗材

　　三,设备日常维修***部件需要根据机台型号选用

　　四,光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,

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真空电镀加工时应该注意的问题，

真空电镀加工时应该注意的问题：

模具电镀表面看起来很光亮，但也会有透明注塑件出现拖花的问题，让不少人想不通，特别是一些初入行的同事。

随着塑胶工业的快速发展，若能缩短这部分的加工时间，就能降低成本，提高公司在市场的竞争力，而本公司结合***的省模抛光设备，全部采用进口材料，以的技术，用快速、率的打磨方法，电镀件镭雕工艺