化学清洗在半导体器件工艺实验中
化学清洗
在半导体器件工艺实验中。化学清洗是指去除吸附在半导体、金属材料和器具表面的各种***杂质或油渍。清洗方法是利用各种化学***和有机助熔剂,使吸附在被清洗物体表面的杂质和油类发生化学反应溶解,或辅以超声波、加热、真空等物理措施,将杂质除去。从要清洁的物体。表面解吸(或解吸),然后用大量高纯冷热去离子水冲洗,得到干净的表面。
讲解大型储油罐清洗标准
讲解一下大型储油罐清洗标准。
水、杂质对油罐油品的污染
油罐油品中的水、杂质,绝大部分是在运输、装卸、储存过程中混入,油罐油品长期存放也会析出油品中溶入的水分,长期累计就会在油储罐底部出现呈酸性的水层。油罐底部沉积的呈酸性的水层,会加速石油储罐的腐蚀,造成油罐壁消薄甚至渗漏。混入油品中的各种机械杂质除会堵塞滤清器和油路,造成供油故障外,还会增加基件磨损,甚至造成摩擦表面刮伤等不良后果。在全部因储存变质的油品中,由于混入水杂而导致油品质量不合格的占绝大部分。
保持油罐内部洁净,减少油品的污染
保持油罐内部洁净,减少油品的污染
汽柴油储罐罐底的渣质主要是铁锈,在油罐卸油时,罐底部的沉积物就会被泛起,粉状铁锈会溶入油品,如果汽车加到了这样的油品,对车辆本身的危害是很大的。柴油储罐罐底的沉积物积累五年,罐底部的糊装油泥就会达到 15 厘米左右。
各种金属以及铁锈,能诱发油品氧化变质。油罐内壁涂刷防锈层能较好的避免金属对油品氧化所起的催化作用。定期清洗油储罐以及油罐内壁防腐涂层是解决金属氧化锈蚀,减缓油品变质的进程的有效措施。
机械清洗比人工清洗有更高的
机械清洗具有以下显著优点:
一是机械清槽施工周期短,。这种机械清洗只需要24天,而手动清洗同一个水箱通常需要至少一个半月。
第二,机械清洗比人工清洗有更高的。首先,机械清洗系统配备了惰性气体发生器、氧气和可燃气体检测装置,可随时监测储罐的状况,以确保储罐中的氧气浓度始终小于8VOL%。其次,由于机械清洗过程不需要人员进入罐体操作,整个清洗过程是在密闭环境下进行的,从而避免了人员因进入罐体清洗而面临的缺氧问题。人类安全的***因素,如,以及人为疏忽引起的和火灾等事故。同时,施工人员不接触油气环境,更符合安全卫生要求。采用人工清舱的施工人员必须进入清舱进行集油、擦洗。罐内工作环境恶劣,存在、缺氧、、高空作业等严重的安全隐患。
第三,机械清洗槽采用密闭清洗,后只有少量的残留淤泥被袋装,不会对环境造成污染。同时,机械清洗过程不会排出任何污油。在清洗过程中,废油通过清洗系统的油水分离罐进行分离,对分离出来的油进行回收利用;在输油过程中,清洗后的储油罐中的所有可采通过管道输送到其他储油罐,进入油库的储运系统。整个过程是在密封的环境中进行的,不会对油罐或罐区以外的环境造成污染;因为不再从油箱底部输送石油,因此可以完全消除油的损失。但是,人工清罐需要处理大量的渣油和淤泥,容易造成站区潜在的环境污染事故。
四是经济效益显著,机械清洗罐底回收率达98%以上,但以往约有150吨油罐底油和污泥不能进入油田储运系统,造成资源浪费和经济损失。
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