今天要讲的是一个看起来不起眼但同样重要的环节——清洗。半导体清洗主要是为了去除芯片生产中产生的各种沾污杂质，是芯片制造中步骤的工艺，几乎贯穿整个作业流程。由于芯片的加工过程对洁净度要求非常高，所有与芯片接触的媒介都可能对芯片造成污染，半导体设备零部件的洁净度的好坏对半导体芯片制程、芯片质量的控制影响很大。

半导体清洗设备公司提供湿法设备，包含湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备，主要应用于集成电路、微机电系统、平板显示等领域。随着半导体芯片工艺技术的发展，工艺技术节点进入 28 纳米、14 纳米等更***等级，随着工艺流程的延长且越趋复杂，每个晶片在整个制造过程中需要甚至超过 200 道清洗步骤，晶圆清洗变得更加复杂、重要及富有挑战性；清洗设备及工艺也必须推陈出新，使用新的物理和化学原理，在满足使用者的工艺需求条件下，兼顾降低晶圆清洗成本和环境保护。

半导体设备泛指用于生产各类半导体产品所需的生产设备，属于半导体行业产业链的关键支撑环节。半导体设备是半导体产业的技术先导者，芯片设计、晶圆制造和封装测试等需在设备技术允许的范围内设计和制造，设备的技术进步又反过来推动半导体产业的发展。半导体氧化设备以及一种制造半导体元件的方法，其能够沿平面方向保持包含在半导体样品内的选择氧化层的氧化量的均勻性， 并适当地控制氧化量。