离子溅射镀膜原理及特点

离子溅射镀膜

原理：

离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。

特点：

对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合物所对应的薄膜材料）；

溅射所获得的薄膜和基片结合较好；

消耗少，每次仅约几毫克；

溅射工艺可重复性好，膜厚可控制，同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜。

如果用标样来做有标样法的定量分析

如果用标样来做有标样法的定量分析，为了保证待测样品与标样膜厚度相同，标样和样品应放在一起同时蒸镀。如果所要分析的样品中含有碳，而又要进行碳的定量分析，则该样品采用环境扫描或低真空的电镜做分析。如果没有低真空的台式扫描电镜，而改镀金属膜，则超轻元素会受到明显衰减。如果样品表面镀有导电膜，在做定量分析时应把所镀膜层的元素峰排除在外，即应让所蒸镀的元素峰参与峰剥离，而不参与定量计算，以尽量减小外来因素的影响。

若粉末自身导电,则可直接放入台式扫描电镜中分析

若粉末自身导电，则可直接放入台式扫描电镜中分析，若粉末自身不导电，除非用环境扫描或低真空台式扫描电镜，否则还需蒸镀导电膜后再放入台式扫描电镜中分析。对粉末颗粒的蒸镀选用旋转镀膜台，若没有旋转镀膜台，则至少应采用两次人为相反方向的倾斜摆放进行镀膜，才能解决粉末颗粒造成的掩蔽死角所带来的不利影响，而对于那些用环氧树脂镶嵌并经研磨、抛光、清洗后的样品，通常只要平放蒸镀一次就可以进行分析。