扫描电子显微镜(SEM)之样品处理的要求

扫描电子显微镜（SEM）之样品处理的要求 1、样品表面须导电。 在大多数情况下，初级电子束电荷数量都大于背散射电子和二次电子数量之和，因此多余的电子须导入地下，即样品表面电位须保持在0电位。如果样品表面不导电，或者样品接地线断裂，那么样品表面静电荷存在，使得表面负电势不断增加，出现充电效应，使图像畸变，入射电子束减速，此时样品如同一个电子平面镜。 2、在某些情况下，样品制备变成重要的考虑因素。 若要检测观察弱反差机理，就须消除强反差机理（例如，形貌反差），否则很难检测到弱的反差。当希望EBSD背散射电子衍射反差，I和II型磁反差或其他弱反差机理时，磁性材料的磁畴特性须消除样品的形貌。采用化学抛光，电解抛光等，产生一个几乎消除形貌的镜面。

扫描电子显微镜的结构有哪些

扫描电子显微镜的结构

1、真空系统

成像系统和电子束系统均内置于真空柱中。真空柱的底部是密封室，也就是放置样品的地方。

之所以采用真空，主要基于以下两个原因：

电子束系统中的灯丝在普通大气中会很快氧化失效，所以使用SEM时除了真空外，通常还需要用纯氮气或惰性气体充满整个真空柱。

为了增加电子的平均自由程，使更多的电子用于成像。

2. 电子束系统

电子束系统由电子和电磁透镜组成。主要用于产生能量分布很窄且具有一定电子能量的电子束，用于扫描成像。

透射电镜TEM和扫描电镜SEM的结构差异

透射电镜TEM和扫描电镜SEM的结构差异：

主要体现在样品在电子束光路中的位置不同。透射电镜的样品在电子束中间，电子源在样品上方发射电子，经过聚光镜，然后穿透样品后，有后续的电磁透镜继续放大电子光束，然后投影在荧光屏幕上；扫描电镜的样品在电子束末端，电子源在样品上方发射的电子束，经过几级电磁透镜缩小，到达样品。当然后续的信号探测处理系统的结构也会不同，但从基本物理原理上讲没什么实质性差别。

相同之处：都是电真空设备，使用绝大部分部件原理相同，例如电子，磁透镜，各种控制原理，消象散，合轴等等。