该方法可获得粒径为40~70 nm的均匀球形颗粒钼粉,但其工艺参数控制比较困难,其中,MoO3-N2和H2-N2气流的混合温度以及MoO3成分都对粉末粒度的影响很大。活化还原法
活化还原法以七钼酸铵(APM)为原料,在NH4Cl的催化作用下,通过还原过程制备超细钼粉,还原过程中NH4Cl完全挥发。
其还原过程大致分为氯化铵加热分解、APM分解成氧化钼、MoO3和HCl反应生成7MoO2Cl2、MoO2Cl2被氢气还原为超细钼粉等4个阶段。该方法比传统方法的还原温度降低约200~300 ℃,而且只使用一次还原过程,工艺较简单。此方法制备的钼粉平均粒度为0.1 μm,且粉末具有良好的烧结性能。韩国岭南大学提出了相似方法,只是所用原料为高纯MoO3。十二钼酸铵氢气还原法
十二钼酸铵氢气还原法是将十二钼酸铵在镍合金舟中,并置于管式炉中,在530 ℃下用氢气还原,然后再在900 ℃下用氢气还原,可制出比表面积为3.0 m2/g以上的钼粉,这种钼粉的粒度为900 nm左右。该方法仅有工艺过程描述,未见到过程机制的分析,其可行性尚未可知。
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