颜料超精细研磨必备设备

颜料超精细研磨必备设备纳米砂磨机 颜料的超细机械粉碎法：颜料超细化一般使用的是超细粉碎法（也叫超细研磨法）。这种方法主要是通过对有机颜料的粒子进行超精细的研磨、剪切，使颜料的粒子均质化的分布，要想有机颜料在水中有良好的稳定性，必须要具备三个条件就是：润湿、稳定以及固液分离。 一、润湿---顾名思义就是将颜料完全浸润，去除粒子聚集体中的空气和杂质。 二、分离---是指将抱团的物料解聚成均匀较小的粒子后的一个重要步骤，而非将颜料晶体研磨成更小粒度的粒子。要想分离的效果好，就要提高纳米砂磨机(颜料砂磨机)的剪切力。一般说来，剪切力越高，颜料分离的速度越快，分离效果越好。常用的颜料分离机械有纳米砂磨机(颜料砂磨机)、球磨机和高速分散机等。超细颜料的稳定化是影响整个粉碎分散过程的关键。 颜料的超精细研磨必须选择适当的分散介质和分离设备，超细粉碎法简单可行，只要具备常规的研磨分散设备，如纳米砂磨机（颜料砂磨机）球磨机、超微粉碎机和适当的分散剂，即可制得在水介质中均匀分散的有机颜料粒子。我公司生产的纳米砂磨机（颜料砂磨机）能将颜料超精细研磨细度达到数十纳米。

影响研磨机工作效率的因素有哪些

影响研磨机工作效率的因素有哪些 研磨机是工件提高精度、平整度的重要途径之一，在LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、硅片、导光板等应用广泛。大家都知道，效率是企业运转的必要支撑，那么研磨机的工作效率和哪些因素有关呢？ 首先是研磨机的研磨压力，研磨压力大则切削量也变大，自然而然研磨机的工作效率有所提高。其次，研磨机的工作效率也关乎到研磨速度，毫无疑问，研磨速度越快，研磨的效率就越高。不过建议研磨速度适当而行，研磨速度过快会使产生的切削热量过大，从而造成工件变形。 后，工件壁厚的均匀度也会影响研磨机的工作效率。由于工件壁厚不均匀，在研磨加工过程中要特别控制速度，进而研磨机的工作效率就会受到影响。

平面研磨抛光机砂带堵塞的原因总结

平面研磨抛光机砂带堵塞的原因总结 在平面研磨抛光机中砂带的作用不可忽视，对于提高工件的精度和机械设备的工作效率大有帮助。而砂带堵塞是研磨加工行业常见的问题，砂带堵塞会导致其寿命缩短，磨削能力下降。对此，我们具体分析有哪些原因会造成砂带堵塞。 1、平面研磨抛光机运行中的研磨压力过大。 2、砂带的磨料与设备运行需求不合适。 3、砂带单侧与工作台的平行度呈现差异，需要调整两者的平行度。 4、砂带温度过高导致磨削温度高。

切割、研磨、抛光容易忽视的操作环节要注意了

切割、研磨、抛光容易忽视的操作环节要注意了 研磨抛光，切割前应对其定向，确定切割面，切割时首先将锯片固定好，被切晶体材料固定好，切割速度选择好，切割时不能不用切割液，它不仅能冲洗锯片，而且还能减少由于切割发热对晶体表面产生的损害，切割液还能冲刷切割区的晶体碎渣。 切割下来的晶片，要进入下一道工序研磨。首先要用测厚仪分类测量晶片的厚度进行分组，将厚度相近的晶片对称粘在载料块上。粘接前，要对晶片的周边进行倒角处理。粘片时载料块温度不易太高，只要固定腊溶化即可，晶片摆放在载料块的外圈，粘片要对称，而且要把晶片下面的空气排净（用铁块压实）。防止产生载料块不转和气泡引发的碎片的现象。在研磨过程中适时测量减薄的厚度，直到工艺要求的公差尺寸为止。 使用研磨抛光机前要将设备清洗干净，同时为保证磨盘的平整度，每次使用前都要进行研盘，研盘时将修整环和磨盘自磨，选用研磨液要与研磨晶片的研磨液相同的磨料进行，每次修盘时间10分钟左右即可。只有这样才能保证在研磨时晶片表面不受损伤，达到理想的研磨效果。 抛光前要检查抛光布是否干净，抛光布是否粘的平整，一定要干净平整。进行抛光时，抛光液的流量不能小，要使抛光液在抛光布上充分饱和，一般抛光时间在一小时以上，期间不停机，因为停机，化学反应仍在进行，而机械摩擦停止，造成腐蚀速率大于机械摩擦速率，而使晶片表面出现小坑点。 设备的清洗非常重要，清洗是否干净将直接影响磨、抛晶片的质量。每次研磨或抛光后，都要认真将设备里外清洗干净。