双面研磨抛光机的使用操作,你做对了几点?

双面研磨抛光机的使用操作，你做对了几点？ 双面研磨抛光机广泛应用于各种材料的双面研磨抛光，像东研自主研发的ZS1200B-S、ZS930B-S、ZS640B-S以及ZS460B-S系列的双面研磨抛光机研磨抛光后可达到≤0.002mm的平面误差。 然而，在实际应用中，有些用户往往会忽略抛光设备的正确使用方法，导致设备在研磨抛光的过程中出现各种故障。接下来，一起随小编看看双面研磨抛光机的使用方法你正确了几点呢？ 点双面研磨抛光机的抛光率要达到，这样便可以尽快消除产生的损伤层。而且粗抛和精抛这两道工序前后需正确也不可任意省略其中一道工序。粗抛主要目的是去除磨光损伤层，精抛主要是消除粗抛产生的表层损伤，达到抛光损伤的目的。 第二点要注意抛光过程中试样磨面与抛光盘要平行并均匀轻压在抛光盘上，同时要避免试样飞出和因压力太大出现新的划痕。

浅说平面研磨机工作时间和速度的联系

浅说平面研磨机工作时间和速度的联系 平面研磨机工作的时间和速度这两个研磨要素是密切相关的，与加工过程中工件所走过的路程成正比，研磨时间过长，不仅加工精度趋向稳定不再提高，甚至会因过热变形丧失精度，并使研磨效率降低。实践表明，在研磨的初始阶段，工件几何形状误差的消除和表面光洁度的改善较快，而后则逐步缓慢下来。 通过平面研磨机工作原理的分析可知;研磨开始阶段因有工件的原始粗键度及几何形状误差，工件与研具接触面积较小，使磨粒压下较深。随着研磨时间增加，磨粒压下渐浅，通过工件横截表面的磨粒增多，几何形状误差很快变小而表面光洁度构改善也较快。当基本消除几何形状误差之后，工件与研具上的磨粒接触较多，此时磨粒压下深度较浅，各点切削厚度趋于均匀。研磨时间再长些，则通过工件横截面磨粒数量增多，对工件精度的改善则变得缓慢了。超过一定的研磨时间之后，磨粒钝化得更细，压下更浅，切削能力也更低了，并逐渐趋向稳定。 对粗研磨来说，为获得较高的研磨效率，平面研磨机研磨时问主要应根据磨粒的切削快慢来确定。对精研磨来说，实验曲线表明，研磨时问在1~3分钟范周，对研磨效果的改变已变缓，超过3分钟，对研磨效果的提高没有显著变化。

研磨抛光中冷却研磨盘有什么意义

研磨抛光中冷却研磨盘有什么意义 从事平面研磨加工的朋友都知道在超精密研磨抛光较薄脆零件过程中，研磨盘和工件是做相对摩擦运动的，研磨盘与工件的局部接触区域往往会出现高温，有时甚至可以达到几百度。局部的高温不但会零件表面，形成加工变质层，而且会引起零件的局部变形，同时，平面研磨机局部高温区的热量还会以热传导的方式传到整个研磨盘，使研磨盘也会发生热变形，研磨盘作为研磨加工的磨具，其面型精度能在一定程度上“”到工件表面。 因此，平面研磨机在进行研磨抛光过程东研磨盘自身的热变形对工件的面型精度一定会有影响。而且研磨盘温度越高，越不均匀，工件所受的变形影响越大。因此及时地将局部研磨盘高温区的热量驱散，合研磨盘各部分的温度比较均匀且处于较低的水平是非常的必要的。