精密研磨抛光机研磨超薄工件变形的解决方法

精密研磨抛光机研磨超薄工件变形的解决方法 精密平面研磨抛光机广泛应用于各类材料的单面研磨抛光，特别是针对超薄工件、越大工件、易碎工件有明显的加工优势。不过在研磨超薄工件会出现变形情况，这是研磨过程中常见的一个问题，如何解决这个现象就是我们今天主要分析的话题。 出现这种情况的关键原因是因为工件太薄，在抛光的过程中容易塌边，破碎。所以我们可以从减少超薄工件的受力方面入手，减少工件受力可以垫弹性垫片减小工件的弹性变形。垫纸、涂白蜡也是减少工件受力的方法，从而降低超薄工件变形发生的概率。 除了降低工件的压力，还可以降低高温对工件的损坏度入手，工件温差过大也是影响变形的一个因素。所以可以在研磨平面研磨抛光机配备冷却装置减少工件磨削的温差，同时还能提高磨削的质量。

平面研磨机研磨盘的目数代表的含义介绍

关于平面研磨机研磨盘的目数代表的含义介绍 随着平面研磨机使用范围越来越广泛，但许多刚刚接触这行业的人并不了解什么是研磨盘的目数代表的是什么意思。下面就来简单介绍一下！ 在单位面积内，研磨颗粒的颗粒数，指的是研磨盘内颗粒的大小。比如说80目、200目、300目、600目等等。目数值越大，代表的是颗粒细微程度越小，研磨出的越细腻，从而让产品表面粗糙度更细腻，达到平面效果，按产品种类再使用抛光皮或者抛光布进行抛光，便能呈现出精密的镜面效果。 这时候，很多人就会有疑问，那都用高目数的就好了。低目数没什么作用了吗。其实并不然，因为平面研磨机治具上放上许多产品，然而有的产品与产品的厚度相差几个丝，这时便能用目数较大的研磨盘进行开粗，使得平面研磨机的研磨时间缩短，增加效益。

浅析硅片抛光机的两种抛光方式

浅析硅片抛光机的两种抛光方式 硅片抛光机如何解决这个矛盾的的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到。 硅片抛光机不是碾除整体的糠层，是通过碾除细微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉细粒，抛光机抛光和碾白从工作方面比较存在着很大的差别，抛光机抛光压力很低，抛光机抛光米粒的时候流体密度很小，抛光时米粒离开铁辊的速度很快，而且抛光机单位产量抛光运动面积很大。