平面研磨机的两种设备类型

平面研磨机的两种设备类型 平面研磨机是用于工件平面研磨抛光的设备，在打造镜面效果和光滑表面有着突出的作用。平面研磨抛光有单面和双面两种方式的研磨抛光方式，相对应的就有单面研磨抛光机和双面研磨抛光机。 像我们日常接触的手机玻璃、蓝宝石、陶瓷、金属等表面光滑的产品都是通过单面研磨抛光机加工而成。尤其对于超薄工件、体积大的工件和易损工件，单面研磨抛光机的研磨加工优势愈加明显。双面研磨抛光机主要是通过上下研磨盘相反方向转动进行工作，在光学玻璃行业的硅片、蓝宝石衬底、外延片中的应用具有重要意义，双面研磨抛光机在双面研磨抛光后可以工件达到≤0.002mm的平面误差。 平面研磨机用于研磨抛光是非常实用的设备，代替了传统低效率的研磨加工方式，提高了研磨加工行业的整体工作效率，给相关行业带来更多的经济效益。

研磨加工中常用的磨料种类

研磨加工中常用的磨料种类 磨料是研磨机加工过程中，研磨液中必不可少的一个重要组成部分，对研磨起着决定的作用，在平面研磨机进行粗加工的时候，使用的磨料会显得较粗糙，而在平面抛光机精加工的时候，所使用的抛光液中的磨料就很细。根据各阶段所到的加工的目的的差异，其在不同的研磨机加工时会使用不同磨粒的研磨液，达到加工效果。而磨料的种类很多，它的分类一般都是按照它的硬度来进行划分的。 1、硬度的是金刚石，通常会有人造金刚石以及天然金刚石这两种。 2、其次就是碳化物类，如黑碳化硅、绿碳化硅、碳化硼和碳涟硼等。 3、再次是硬度较高的刚玉类，如棕刚玉、白刚五、单刚玉、路刚玉、微晶刚玉、黑刚玉、铝刚王和烧结刚玉等。 4、硬度的氧化物类又称软之为质化学磨料，有氧化格、氧化铁、氧化埃及氧化饰等。

平面研磨机需要进行修盘的原因分析

平面研磨机需要进行修盘的原因分析 在平面精密研磨过程中，研磨盘的精度是决定研磨工件品质的重要因素。我们都知道平面研磨机的磨盘在经过一段时间的研磨过后，由于磨盘磨损强度不均匀会导致研磨盘不平整，在后面研磨的工件加工质量会变得参数不一致，而且磨盘表面磨粒与粘结剂形成的微孔会被磨屑淤塞，造成磨削效率下降。研磨盘的平面度是影响高精密研磨加工品质的关键因素。 不平整的研磨盘会造成研磨压力的不均匀，导致摆放在放料架具结轮片上不同位置的工件加工厚度不一致，严重时还会影响工件的平面度与其他质量参数。因此，平面研磨机就必须采用修盘器来修整研磨盘。采用材料相对来说较硬的修盘器来对磨盘进行修整，使其露出新的，平整的研磨表面。研磨盘的修整采用修盘器与研磨盘互研的方法，通过调整中心齿轮、外齿轮圈以及上下盘的转速，从而得到修整研磨盘磨石的不同效果。平面研磨机修盘时的工艺参数对研磨盘的修整效果需要长时间的经验积累，同时还与工艺条件操作都经验技术相关。一般来说在选购平面研磨机时选购自带修盘的，这样不仅能保证加工产品的质量，同时也为日后机器修盘方便快捷。

浅析硅片抛光机的两种抛光方式

浅析硅片抛光机的两种抛光方式 硅片抛光机如何解决这个矛盾的的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到。 硅片抛光机不是碾除整体的糠层，是通过碾除细微的糠粉和粗糙表上面突起的淀粉细粒，抛光机抛光和碾白从工作方面比较存在着很大的差别，抛光机抛光压力很低，抛光机抛光米粒的时候流体密度很小，抛光时米粒离开铁辊的速度很快，而且抛光机单位产量抛光运动面积很大。