平面研磨机研磨盘的目数代表的含义介绍

关于平面研磨机研磨盘的目数代表的含义介绍 随着平面研磨机使用范围越来越广泛，但许多刚刚接触这行业的人并不了解什么是研磨盘的目数代表的是什么意思。下面就来简单介绍一下！ 在单位面积内，研磨颗粒的颗粒数，指的是研磨盘内颗粒的大小。比如说80目、200目、300目、600目等等。目数值越大，代表的是颗粒细微程度越小，研磨出的越细腻，从而让产品表面粗糙度更细腻，达到平面效果，按产品种类再使用抛光皮或者抛光布进行抛光，便能呈现出精密的镜面效果。 这时候，很多人就会有疑问，那都用高目数的就好了。低目数没什么作用了吗。其实并不然，因为平面研磨机治具上放上许多产品，然而有的产品与产品的厚度相差几个丝，这时便能用目数较大的研磨盘进行开粗，使得平面研磨机的研磨时间缩短，增加效益。

平面抛光机和平面研磨机的具体区别

平面抛光机和平面研磨机的具体区别 同样是金属平面表面处理自动化机械设备，平面抛光机与平面研磨机到底有什么区别呢？今天小编就和大家来聊聊。平面抛光机和平面研磨机虽然有一字之差，但两者的机械动作结构基本相同。都是通过物理的方式，通过摩擦的方式产生切削力，将产品表面打磨平滑，从而达到抛光的目的。 虽然平面抛光机和自动抛光机的机械动作原理几乎一样，但两者在实际中的应用还是有着很大的差别的。 1.平面抛光机是通过发动机带动磨盘转动，并和在磨盘上自转的工件产生摩擦，运用摩擦产生切削力，将工件表面凹凸不平的地方磨平，来达到抛光目的。平面抛光机适用于金属平面(及非金属材料)的研磨抛光及电镀前的表面处理。可装砂轮、麻轮、布轮、风轮、尼龙轮、纤维轮、千叶轮及砂带轮等抛轮;可出砂光或镜光，也可以拉丝出纹。用途也非常广泛，可以适用于不同行业和不同材质的平面抛光，主要是将各种材质的工件进行表面精抛，使其达到一定的平面度，平行度和光洁度，以及更加美观。 2.平面研磨机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于平整的研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压或其它方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。平面研磨机利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工(如切削加工)。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他型面。其主要用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、诸片、模具、导光板、光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。

时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析

时间对平面抛光研磨机的抛光液PH的影响分析 抛光液PH值是抛光元件表面粗糙度的重要影响因素，他是抛光元件化学抛光的重要组成部分。事实证明，当抛光压力、温度等外界因素相匹配时，平面抛光研磨机抛光时的PH值应控制在11.25左右，这时候化学抛光和机械抛光的作用相平衡，抛光效果! 抛光液中PH值参数是衡量一种液体性能是否稳定的重要因素。很多抛光液使用者并没有清楚的意识到这一点，他们往往对抛光液内的粒度分布，粒径大小，均匀性，配比等感兴趣，而忽略了一个重要的因素-PH值对整个液体状的的影响。 在化学性质的液体中，PH值的大小影响着液体性能的稳定。抛光液一般在微酸或者微碱的时候，对平面抛光研磨机工件的抛光效果，所能达到的表面粗超度。当PH值偏碱性时，粗超度变大。所以在配置这种液体的时候，我们不能忽略这一点，一定要反复试验，取得一个稳定值。 抛光液的PH值是变化的。这是因为抛光液会随着时间的变化而变化。由于某些工件在抛光时产生水解作用,在实际抛光过程中抛光液的pH值会随抛光时间不断变化。在每次添加抛光液后,pH值的变化为剧烈。因此一开始先每隔15s测量一次,之后每隔1min测量一次,从而可得出不同初始pH值的抛光液在抛光过程中pH值的变化规律。在对不含有碱金属氧化物,不会与水产生水解反应,在平面抛光研磨机的抛光过程中抛光液的pH值基本保持不变,所以其抛光方法也不同。