手机纳米液离子镀膜的工作原理

离子镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空蒸发镀膜机、真空多弧离子镀膜机、真空中频磁控溅射镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、真空光学(电子束蒸发)镀膜机等系列真空镀膜设备，主要思路是分成蒸发和溅射两种。

离子溅射镀膜，多半是在反应气体存在下进行的，化合物沉积膜的稳定性和光学常数，依赖于气体的类型和阴极材料。常用的反应气体为氧气，常用的阴极材料有铁、镍、铜铅等，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。反应溅射形成的氧化物是属于有吸收而折射率不是很高的镀膜材料。

切削工具真空镀膜机

切削工具真空镀膜机可以提高工具的切削速度和给刀量，降低加工的时间和成本，更长的使用寿命降低了工具更换的成本，涂层具备的热稳定性、热硬度和能力、低摩擦系数和低粘附倾向。真空镀室的真空密封和室内运动部件的设计和用材，充分考虑可承受高温，配置多只园形电弧蒸发源，或配多个矩形平面电弧蒸发源，也可配多只空心阴极枪，同时配置耐冲击的、具有优异灭闪弧性能的偏压电源，保证足够等离子体密度和反应活性，提高膜层致密性和结合力。工件可三维运动，提高膜层均匀性。全自动控制提高工艺稳定性。

真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别：

蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。真空镀膜机设备

溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。

真空抽气系统的结构与工作原理

高真空卷绕镀膜机的真空抽气系统由卷绕室抽气机组和镀膜室抽气机组组成。

卷绕室抽气机组由1台油增压泵、2台罗茨泵、1台滑阀泵和1台旋片泵组成，油增压泵作为主泵，以保证在达到10-1Pa的工作压力下有较大的抽气速率；

镀膜室抽气机组由1台油扩散泵、1台罗茨泵、1台滑阀泵和1台旋片泵组成，油扩散泵作为主泵，以保证铝丝蒸发所需的10-2Pa真空状态。

真空抽气系统由可编程PLC集中控制，在液晶触摸屏上进行操作，分为自动控制和手动控制两种模式。正常操作使用自动模式，PLC将根据在真空计中设定的各级真空值对各台真空泵的启动或停止、阀门的开启或关闭等功能实现自动控制。手动控制模式主要供调试和检修时使用，可以实现单独开闭各泵和阀门的操作。

真空管道上的阀门均为气动控制阀，并采用电磁换向阀控制其开启或关闭，阀门上的气缸配有位置信号开关，方便控制系统对阀门的状态实施监控。

在罗茨泵与滑阀泵的连接管道上装有气动充气阀，可供滑阀泵停止时向泵腔内充入大气之用，其开、闭动作与滑阀泵联动，由可编程PLC控制其滞后或提前的时间。

镀膜室抽气方阀上装有气动放气阀，供卷绕结束时卷绕车退出前向真空室内充入大气之用，其开启动作和时间长短由可编程PLC控制。

各个真空管道上装有真空测量规管座以提供可编程PLC和真空计所需的真空压力信号，同时为维修、检测真空系统各管道的压力提供方便。