真空镀膜过程的对于溅射类镀膜到底多重要？

可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。

对于不同的溅射材料和基片，参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精准控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。

真空泵，隔膜泵机械密封的安装与使用要求

1、机械密封对机器精度的要求：（以真空泵的机械密封为例）

（1）安装机械密封部位的轴（或轴套）的径向跳动公差不超过0.04～0.06mm.

（2）转子轴向窜动不超过0.3mm.

（3）密封腔体与密封端盖结合的***端面对轴（或轴套）表面的跳动公差不超过0.04～0.06mm.

2、密封件的确认：

（1）确认所安装的密封是否与要求的型号一致。

（2）安装前要仔细地与总装图对照，零件数量是否齐全。

（3）采用并圈弹簧传动的机械密封，其弹簧有左、右旋之分，须按转轴的旋向来选择。

真空镀膜设备选购要点分析

真空镀膜设备选购要点分析如下：

1、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备，其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

3、夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。

4、真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。

5、根据工艺要求选择镀制方式及形式，如电阻蒸发（钨丝、钼舟、石墨舟）磁控源（同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材质及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直径靶材，气动、电动的引弧等），真空测量可选择数字式智能真空计及其的测量规管，及其它测量仪器，如自动压强控制仪等。膜厚测量可选用方块电阻测量仪，透过率计等。

6、充气方式可选用质量流量计、浮子流量计+针阀及相应的充气阀门，并可选择多路充气管路及相应流量参数。

7、根据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应仪表测量。

8、根据设备使用特点，可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。

9、完善的报警系统，对真空室体、扩散泵断相、缺水、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。