镀膜设备的镀膜方式及特点

镀膜设备就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽的设备。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。

镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀，镀膜设备的特点：成膜速度快0.1-50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。

蒸发真空镀膜机的原理及性能,你了解多少?

今天至成镀膜机真空小编要为大家讲的是蒸发真空镀膜机的原理和性能，段时间还有一个新人问我这方面问题，今天我就把我的知道的阐述出来，和大家一起成长和提升。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。

五金首饰真空镀膜机

集成了直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发技术，结合线性电离源和脉冲偏压涂层薄的沉积颗粒。各种膜性能的改善，能大衣合金薄膜，复合膜，多层复合膜的金属表面上以及非金属。金首饰真空镀膜机集成了直流磁控溅射，中频溅射和电弧离子蒸发技术，结合线性电离源和脉冲偏压涂层薄的沉积颗粒。各种膜性能的改善，能大衣合金薄膜，复合膜，多层复合膜的金属表面上以及非金属。经过多年专门的研发我们的工程师，通过独特的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，我们开发了一套计算机自动控制系统使涂膜附着力密度以及复杂的一致性好，解决手工操作的复杂性，膜的颜色不一致等问题。

PVD镀膜膜层的特点及厚度

PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 PVD镀膜能够镀出的膜层种类,PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。