真空镀膜机溅射工艺

真空镀膜机溅射工艺主要用于真空镀膜机溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受Ar离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。真空镀膜机溅射刻蚀时，应尽可能从真空镀膜机溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时，溅射源置于靶极，受Ar离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜；若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。在溅射中，溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的，其能量较高，往往比蒸发原子高出1～2个数量级，因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发为佳。

若在溅射时衬底加适当的偏压，可以兼顾衬底的清洁处理，这对生成薄膜的台阶覆盖也有好处。另外，用真空镀膜机溅射法可以制备不能用蒸发工艺制备的高熔点、低蒸气压物质膜，便于制备化合物或合金的薄膜。溅射主要有离子束溅射和等离子体溅射两种方法。离子束溅射装置中，由离子枪提供一定能量的定向离子束轰击靶极产生溅射。离子枪可以兼作衬底的清洁处理和对靶极的溅射。为避免在绝缘的固体表面产生电荷堆积，可采用荷能中性束的溅射。中性束是荷能正离子在脱离离子枪之前由电子中和所致。离子束溅射广泛应用于表面分析仪器中，对样品进行清洁处理或剥层处理。由于束斑大小有限，用于大面积衬底的快速薄膜淀积尚有困难。等离子体真空镀膜机溅射也称辉光放电溅射。产生溅射所需的正离子来源于辉光放电中的等离子区。靶极表面必须是一个高的负电位，正离子被此电场加速后获得动能轰击靶极产生溅射，同时不可避免地发生电子对衬底的轰击。

多功能真空镀膜机的组成

多功能真空镀膜机，发明结构简单，操作方便，功能齐全，能够保持真空室内无尘环境，而且能够对镀膜机内部快速降温，提高工作效率，设置有密封圈可以防止气体的泄漏。多功能真空镀膜机包括真空镀膜机本体、控制面板、迅速降温装置、补充气体管、补充气体箱、抽气管、抽气箱、扩散泵、罗茨泵、机器泵、抽气除尘器、抽气空气泵、补充气体除尘器、补充气体空气泵，迅速降温装置包括框体、水槽、入水塞、海绵金属网、散热风扇、进风口，控制面板设置于真空镀膜机本体的左侧，迅速降温装置设置于真空镀膜机本体的右侧，补充气体箱通过补充气体管与真空镀膜机本体内部连通，抽气箱通过抽气管与真空镀膜机本体连接，机器泵与抽气管连接，罗茨泵与机器泵连接，抽气除尘器的一端与抽气管连接，另一端与抽气空气泵连接，抽气除尘器和抽气空气泵都设置于抽气箱内，补充气体除尘器和补充气体空气泵都设置于补充气体箱内，补充气体除尘器通过补充气体管与真空镀膜机本体内部连通，补充气体空气泵与补充气体除尘器连接，水槽设置于框体的底部，入水塞设置于水槽上，海绵金属网的顶端与框体顶端连接，底端与水槽底端连接，散热风扇设置于海绵金属网的后方，进风口设置于框体的左右两侧。

高真空蒸发镀膜设备有哪些特点

真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。真空蒸发镀膜装置，是在真空室中利用电阻加热，将金属镀料熔融、汽化，让金属分子沉积在基片上，获得光滑的高反射率的金属膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

高真空蒸发镀膜设备具有结构合理、抽速大、工作周期短、生产、操作方便，能耗低、工作稳定，且膜层均匀、成膜质量好等优点。该设备主要广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。

可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PVC、TPU、PC、尼龙、玻璃、陶瓷、金属等。

可镀基材表面状态：电镀亮面、哑光面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等。可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。

冲压件真空镀膜设备

工具经冲压件真空镀膜设备硬质涂层处理后，其性能更稳定，可出稳定、高质量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半径受到磨损，显著延长工具的使用寿命；使用寿命的延长和行程率的提高在提高生产率的同时降低了单位成本；底层坚硬而顶层摩擦低的涂层系统，降低了粘附磨损，从而可能减少对环境产生不良影响的润滑剂的用量，甚至完全不使用润滑剂；因为涂层减少了工具负荷并因而降低了破损风险，生产可靠性得以提高，对于金属薄板成型工具，涂层可用作磨损指示器，磨损和冷焊的减少改进了工件的表面质量，也使工件能够满足对其外观的更高要求，光洁度也与随后的电镀工艺更加相匹配。

真空镀室的真空密封和室内运动部件的设计和用材，充分考虑可承受高温，配置多只园形电弧蒸发源，或配多个矩形平面电弧蒸发源，也可配多只空心阴极枪，同时配置耐冲击的、具有优异灭闪弧性能的偏压电源，保证足够等离子体密度和反应活性，提高膜层致密性和结合力。工件可三维运动，提高膜层均匀性。全自动控制提高工艺稳定性。