长沙多弧离子镀膜机价格合理「多图」
作者:至成真空科技2021/11/27 6:17:59









影响离子镀膜层质量的工艺参数


①基片偏压.

离子镀膜基片施加负偏压后;各种离子和高能中性粒子流以较高的能量轰击基片表面.基片负偏压的提高,会使基片表面获得更高的能量,可能形成伪扩散层,提高膜层与基体的附着力,还可以改变膜层的***、结构和性能,如细化晶粒,图2表明,随着基片负偏压的提高,膜层***变细,但是,基片负偏压的提高也会产生一些不利的影响,如反溅射作用的增加,使膜层表面受到刻蚀,使表面光洁程度降低,图3表明了空心阴极离子镀铬时,基片负偏压对铬膜表面光泽度的影响,基片负偏压的提高还会使沉积速率降低,使基片温度升高,图4表明了电弧离子镀tin膜基片负偏压对沉积速率的影响,因此,应根据不同的离子镀方法、不同的膜层及使用要求选择适当的基片负偏压。

②镀膜真空度和反应气体分压.

离子镀膜真空度对膜层***、性能的影响与真空蒸镀时的影响规律相似,但反应气体分压对反应离子镀镀制化合物膜的成分、结构和性能有直接的影响,图5是hcd离子镀tin膜的硬度与氮气分压的关系,因此反应气体的分压应根据离子镀方法,化合物膜层的成分、性质、使用要求以及设备来选择


③基片温度.

离子镀膜基片温度的高低直接影响着膜层的***、结构和性能。一般情况下,温度的升高有利于提高膜层与基片的附着力,有利于改善膜层的***与性能。但是,温度过高,则会使沉积速率降低,有时还会使膜层晶粒粗大,性能变坏;图6中hcd离子镀铬膜显微硬度受基片温度影响的规律。另外,基片温度的选择还要受基片材料性质的限制,如钢材的回火温度等

④蒸发源功率.

蒸发源功率对蒸发速率有直接的影响,进而影响沉积速率,影响膜层的***、性能,对反应沉积化合膜时蒸发源功率也将影响膜层的成分。

为了获得所需性能的膜层,应综合分析、考虑各种因素,迭择镀膜方法和确定合理的镀膜工艺参数。



光学真空镀膜机光学镀膜特点分类


光学真空镀膜机的光学镀膜特点有哪些呢?很多人很好奇,毕竟是真空镀膜行业的新技术,已经广泛用于数码科技,传统银镜,科学仪器,光通信,半导体,新能源等行业,获众多厂商认可,并大量投入使用。那么光学真空镀膜机光学镀膜特点分哪几种类型呢?下面为大家详细介绍一下:

主要的光学真空镀膜机光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等,它们在国民经济和建设中得到广泛的应用,获得了科学技术工作者的日益重视。例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍的减小;采用高反射膜比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高硅电池的效率和稳定性。

简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质膜层。在这种情况下,可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色光平面波入射到光学薄膜上时,在它的两个表面上发生多次反射和折射,反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律给出,反射光合折射光的振幅大小则有菲涅尔公式确定。


新型磁控溅射真空镀膜机镀膜工艺


磁控溅射真空镀膜机镀膜工艺在镀膜行业无处不在,只要说到镀膜技术,大家都会立刻想到磁控镀膜工艺,磁控溅射真空镀膜机也受到了各大厂家的追捧,磁控溅射镀膜工艺更是受到大家的喜爱,今天至成小编为大家介绍一下磁控溅射镀膜机镀膜工艺。

其实从一般的金属靶材溅射、反应溅射、偏压溅射等,伴随着工业需求及新型磁控溅射技术的出现,低压溅射、高速沉积、自支撑溅射沉积、多重表面工程以及脉冲溅射等新型工艺成为目前该领域的发展趋势。低压溅射的关键问题是在低压(一般是指<011Pa)下,电子与气体原子的碰撞几率降低,在常规磁控溅射技术中不足以维持靶材表面的辉光放电,导致溅射沉积无法继续进行。通过优化磁场设计,使得电子空间运动距离延长,非平衡磁控溅射技术可以实现在10-2Pa等级的真空下进行溅射沉积。另外,通过外加电磁场约束电子运动可以实现更低压强下的溅射沉积。进行高速沉积可以极大的提高工作效率、减少工作气体消耗以及获得新型膜层。实现高速沉积主要需要解决的问题是在提高靶材电流密度的同时,不会产生弧光放电;由于功率密度的提高,靶材、衬底的冷却能力需要相应提高等。目前,已经实现了靶材功率密度超过100W/cm2,沉积速率超过1μm/min。



真空镀膜机多少钱一台


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大家都知道,真空镀膜机价格各参差不齐,应用到的行业不一样,镀的材质不一样,面积大小不一样,机器配置不一样,都会影响到真空镀膜机的价格。因此要说一台真空镀膜机价格具体多少钱,真的没办法说出具出来,只能说一个大概范围,真空镀膜机从几十万到几百万,甚至上千万都有。比如那种实验室用的镀膜机,可能几十万就能搞定,但是企业用的那种镀大量材质的真空镀膜机有几十万到几百万,不过还是要看行业,还要看镀什么材料,以及客户有什么样的需求。


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