真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的?

真空镀膜机离子镀技术市场使用占比率非常高，镀餐具，镀家居，镀饰品等都离不开离子镀膜技术，离子镀膜技术不仅仅在国内受追捧，国外也是一样受喜爱。那么，真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的？下面至成小编为大家详细介绍一下：

离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。

PVD真空镀膜机镀膜工艺原理

PVD即物***相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀；通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。PVD真空镀膜机镀膜工艺原理分为以下三种情况：

（1）真空蒸镀基本原理：在真空条件下，使金属、金属合金等蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，电子束轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。

（2）溅射镀膜基本原理：充Ar（Ar）气的真空条件下，使Ar气进行辉光放电，这时Ar（Ar）原子电离成Ar离子（Ar），Ar离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。

（3）离子镀基本原理：在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。

真空PVD镀膜涂层工艺有那些步骤呢?

今天至成真空小编为大家详细介绍一下真空PVD镀膜涂层工艺操作步骤，它的先后顺序是怎样的，有那些细节和原理是必须要了解的。

首先在处理工艺前，需要褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹。镀膜工艺，抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉。后处理工艺：首先清洗环节，确保真空镀膜机镀膜前产品表面的清洁，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量；然后再抽真空将真空室内的残余气体抽走。接下来加热烘烤，炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放。压升率测试，测试炉体的漏气率和放气率。轰击清洗，去除工件表面的杂志，露出新鲜表面。镀膜，沉积膜层。冷却，避免工件氧化变色。为什么要进行冷却，镀膜工艺完成后，真空室内温度高达500℃，如果不冷却就放气，没有被镀上膜的高温工件表面会因为与空气反应氧化变成蓝色。