什么是真空镀膜技术？

所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。

在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。

真空镀膜机磁流体密封组件的安装

真空镀膜机磁流体密封组件的安装与使用:密封组件安装与使用时应注意注意被装的密封组件与轴的同轴度要求、磁流体的注入量应适当、安装前既应对组件进行必要的真空清洗处理、密封组件泄漏时检查：

1、注意被装的密封组件与轴的同轴度要求，借以保证密封间隙具有较小的偏心量。

2、磁流体的注入量应适当，在保证各级密封间隙中具有足够量的前提下，不可过多地注入磁流体，以防抽空时多余的磁流体进入真空室内，污染真空室。

3、安装前既应对组件进行必要的真空清洗处理，又应注意防止乙醇等清洗剂滴入磁流体密封组件内，以免引起密封组件的失效。

4、如发现密封组件泄漏时应从如下几点进行查找：a、磁流体是否失效；b、连接法兰与组件内静密封圈是否受到损坏；c、极齿齿型是否与转轴接触产生干摩擦；d、转轴与密封组件是否连接不当产生同轴度移位；e、磁铁是否退磁等。

真空镀膜设备的环境要求

由于真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。

我国制定的各种真空镀膜设备的行业标准（包括真空镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备）都对环境要求作了明确规定。只有满足了真空镀膜设备对环境的要求，才能使该设备正常运转，加上正确的镀膜工艺，方能生产出合格的镀膜产品。