真空镀膜技术优点

镀层附着性能好：普通真空镀膜时，在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，离子高速轰击工件时，能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固，膜层均匀，致密。

绕镀能力强：离子镀时，蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动，因而凡是有电场存在的部位，均能获得良好镀层，这比普通真空镀膜只能在直射方向上获得镀层优越得多。

因此，这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝。等其他方法难镀的部位。用普通真空镀膜只能镀直射表面，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。

镀层质量好：离子镀的镀层***致密、无孔、无气泡、厚度均匀。甚至棱面和凹槽都可均匀镀复，不致形成金属瘤。象螺纹一类的零件也能镀复，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

清洗过程简化：现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。

可镀材料广泛：离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层***的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。

热成型模真空镀膜机有什么优势：

热挤压模：热挤压过程中所使用的铁合金与非铁合金工具必须经受因腐蚀与超高温而产生的高成形压力，严重的磨粒磨损以及粘着磨损。HC物***相沉积涂层与HC化学气相沉积涂层展现了其高韧性，耐磨性，抗腐蚀性以及热稳定性，而这些性能恰恰能够明显地提高工具的使用效率。HC化学气相沉积涂层通常适用于拥有复杂几何图形和较大长宽比的工具。HC08,HC10或HC29涂层适用于公差要求不高的工具，而结合了渗氮处理的HC35,HC22或HC30涂层适用于公差要求很高的热挤压工具。

热锻模：热锻造过程中所使用的工具必须经受高成形压力，严重的磨粒磨损以及粘着磨损，并且需要经历要求严苛的热环境条件。另外，它们必须经受高水平的冲击，因此地提升工具性能变得更具挑战性。HC物***相沉积涂层具有高韧性，耐磨性，热稳定性以及抗擦伤性，而这些性能恰恰能够提高工具的使用效率以及铁合金与非铁合金产品的质量。

结合了渗氮处理的HC22,HC25与HC30涂层适用于热锻造工具。