真空镀膜机磁流体密封组件的安装

真空镀膜机磁流体密封组件的安装与使用:密封组件安装与使用时应注意注意被装的密封组件与轴的同轴度要求、磁流体的注入量应适当、安装前既应对组件进行必要的真空清洗处理、密封组件泄漏时检查：

1、注意被装的密封组件与轴的同轴度要求，借以保证密封间隙具有较小的偏心量。

2、磁流体的注入量应适当，在保证各级密封间隙中具有足够量的前提下，不可过多地注入磁流体，以防抽空时多余的磁流体进入真空室内，污染真空室。

3、安装前既应对组件进行必要的真空清洗处理，又应注意防止乙醇等清洗剂滴入磁流体密封组件内，以免引起密封组件的失效。

4、如发现密封组件泄漏时应从如下几点进行查找：a、磁流体是否失效；b、连接法兰与组件内静密封圈是否受到损坏；c、极齿齿型是否与转轴接触产生干摩擦；d、转轴与密封组件是否连接不当产生同轴度移位；e、磁铁是否退磁等。

真空镀膜机和蒸发真空镀膜机的差异

真空镀膜机是在中间设置真空室，在真空室的左右两侧设置左右大门，而在其中配装蒸发装置和磁控装置，可在该双门上预留该两装置的接口，以备需要时换装。真空镀膜机一般都是由真空系统、蒸发系统、薄膜卷绕系统、冷却系统、控制系统等主要部分组成。

当薄膜运行速度达到一定数值后，打开挡板使气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、冷却即形成一层连续而光亮的金属铝层。

通过控制金属铝的蒸发速度、基材薄膜的移动速度等来控制镀铝层的厚度，一般镀铝层厚度在250～500。而蒸发真空镀膜机是***在塑料表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的设备，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。分为立式和卧式。

蒸发真空镀膜设备成膜速率快，膜层牢固，色泽鲜亮，膜层不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层，不产生废液、废水，可避免对环境的污染，是大规模生产的理想设备。离子真空镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的***设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便。

真空镀膜机薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性：也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看（也即是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜机的均匀性现已相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，也即是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。

2.化学组分上的均匀性：即是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于标准过小而很简单的发生不均匀特性，SiTiO3薄膜，假如镀膜进程不科学，那么实践外表的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的份额，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技能含量地点。

3.晶格有序度的均匀性：这决议了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技能中的热点问题。

真空镀膜设备故障排除及检漏方法

真空镀膜设备故障排除及检漏方法在真空镀膜设备正常工作时,主开关电路中的开关管处于饱和导通状态,管压降保持在100V左右,栅极得到正偏压50V,高压指示6kV(或10kV)。从检测电路R21上得到的电压控制信号不足以使D13稳压管击穿导通,BG14、BG15、BG16处于截止状态,而BG11、BG12、BG13处于导通状态,由BG11输出一个2.5V左右的高电位。栅压切换电路上的BG10得到2.5V的电压控制信号而处于导通状态,使得BG9的基极电位变为0电位而截止,主开关管通过D6、D7得到正向50V偏置的电压。同时BG7、BG8也处于导通状态,D8稳压管击穿导通,提供主开关管栅极恒定的电流。由于BG10处于导通状态,使得帘栅控制电路的BG4的基极处在0电位而截止,帘栅压的大小受高压分压器信号UR2的控制。当UR2<UD2时,输出的帘栅压的大小是随UR2的变化而变化。

在真空镀膜设备不正常情况下,增加束流时,由于束斑的位置不在中心,电子束可能会打到坩埚的边缘,或者束斑的位置在中心,但蒸镀的材料被打穿等原因,都会出现高压无指示。这是由于高压输出被近似短路,造成电子束流大于预定值,主开关管处于截止状态,承受全部高压,使得高压无输出。由于打火而造成过大的束流,在电流检测电路R21取得的过流信号,使得D13稳压管被击穿导通,BG14、BG15、BG16处于导通状态,C13通过BG14、R51放电,使得BG11、BG12、BG13很快截止,BG11输出为0V。栅压切换电路上的BG10得到0V的输入信号而截止,BG9立刻导通,550V正端通过BG9接到主开关管的阴极,负端通过D5管接到主开关管的栅极,主开关管得到-550V偏压而进入深度截止,此时高压就没有指示了。