真空镀膜机真空器件的常用检漏方法

真空镀膜机真空器件的常用检漏方法 依据电真空器材的结构特色及丈量精度要求，常用的有两种检漏办法，即氦罩法和喷吹法（这两种检漏办法具体介绍可见：氦罩法和喷吹法的氦质谱检漏仪检漏常见办法）。检漏时，先用氦罩法进行总漏率的测定，当总漏率超出答应值后再用喷吹法进行漏孔的认位。 氦罩法是被检件与检漏仪衔接抽真空到达检漏状况后，用一个充溢氦气的查验罩，把被检件全体或部分的表面面包围起来，如图4所示。查验罩充氦时先将罩内空气排出再充氦，以确保罩内氦浓度尽可能挨近100百分之，被检件上任何地方有走漏。 检漏仪都会有漏率值改变，显示出漏率值。氦罩时刻也要继续3~5倍检漏仪呼应时刻。A***192T2氦质谱检漏仪反应时刻小于0.5s,因而氦罩时刻30s即可。氦罩法可方便地测定被检件总漏率，不会漏掉任何一处漏点，但不能确认漏孔方位。 喷吹法是将被检件与仪器的真空体系相连，对被检件抽真空后用喷枪向漏孔处吹喷氦气。当有漏孔存在时，氦气就经过漏孔进入质谱仪被检测出，喷吹法弥补了氦罩法不能***的缺点。

磁控镀膜机的溅射方式有哪些

磁控镀膜机的溅射方式有哪些 下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。 主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种：(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积. 现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点. 直流溅射发展后期,人们在其表面加上磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法. 而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材等现象. 而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.

空镀膜设备厂家分析保护环境的意义

空镀膜设备厂家分析真空镀膜设备保护环境的意义 真空镀膜设备对于环境也是有着非常重要的意义，所以市场对于真空镀膜设备的使用率非常高，下面真空镀膜设备厂家分析保护环境的意义。 真空镀膜设备在电镀中的应用，可以优先改善***污染状况，告别化学镀膜使用的缺点。在真空环境下，蒸发镀膜不产生任何污染和其他无害物质，是一种绿色低碳的可持续发展。随着社会的发展，许多企业开始使用这种真空镀膜设备，提高了环保意识和环保意识。那么，发展绿色产业是一个永恒的发展趋势。该真空镀膜设备的技术也带领了电镀行业的主流。 因此真空镀膜机镀膜时，膜层的好坏，气体启着关键性的作用，是镀膜环节不可或缺的一步。