中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点

中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。

新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。

柔性电子卷绕真空镀膜设备

HCFLC系列卷绕镀膜设备为各种各样的柔性和可穿戴电子产品，传感器，RFID标签，智能玻璃，智能包装等提供了一种非常有竞争力和成本效益高的薄膜涂层技术。高质量低电阻率铜或TCO层和结构的应用，在满足当今和未来市场需求的同时，成功地弥合了生产率和多功能性之间的差距。

HCFLC系列是生产和研发的良好选择。几乎无限的可能性，在安排多达六组可旋转的旋转器和机器的能力，应用大量的现场测量传感器，使机器能够在生产环境中生产，同时又是非常灵活和灵活的，当作为一个研发机器使用。

这也使得该机成为诸如ITO膜、柔性印刷电路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等应用的。可旋转磁控管，涂层宽度为2000毫米，可能的衬底辊直径为500毫米，是高生产率的基础。

此外，相邻工艺段之间的可选气体分离允许在一个过程中沉积各种各样的金属和电介质层。

除了能够在非反应溅射工艺的同时运行反应溅射工艺外，HCFLC系列还可以配备各种原位传感器，用于连续、准确地监测所需的物理层特性，如层电阻率、反射率或透射比。

pvd镀膜设备镀出的膜层出现异样,是什么原因

之前有少数客户会咨询我们，为什么PVD镀膜设备镀出来的膜，偶尔会出现异样的情况，问具体是什么原因。经过我们技术人员***检查排查，原因各有不同，下面真空小编为大家讲解真空镀膜不良解析。

随着消费水平的提升，人们对产品外观要求也越来越更高，PVD镀膜的应用也越来越广泛。PVD镀膜设备也获得越来越多的制造业厂家认可和喜爱，它的优势也是显而易见的。大家都知道机器，真空镀膜是把金属或者金属氧化物变成气态的分子或原子使其沉积在镀件表面形成镀层的一种技术。和传统的电镀技术相比污染更小、能耗更低，所需的成本较低，装饰效果和金属感都比较强。但是大家也都知道它的缺点，PVD电镀工艺不良率高、生产效率低、膜后不稳定以使颜色稳定性差等，这是整个行业的痛点。随着后期技术不断的发展，环保要求门槛不断提高，传统电镀逐渐将被替代及消费者对产品外观的提高，真空镀膜技术在未来会有更广阔的发展前景。

怎么给真空镀膜设备的真空泵换油

怎么给真空镀膜设备的真空泵换油 在使用真空镀膜设备时，对机器的***工作是十分重要的。他能有效提高机器的寿命，那么对于其中的真空泵的换油工作，究竟该如何呢？ 我们通常在机器工作3个月时间左右，就要对机器的油进行更换，在比较湿润的地方或者湿润的气候，这种地方的空气对于真空泵中的润滑油的污染是非常严重的，所以我们要根据情况缩短更换润滑油的时间。 我们要做的就是把真空泵从真空电镀系统中拆出来。将底盘电机一端垫高些，打开放油塞放油，转动真空泵、捂住排气口，使腔内污油全部从放油口放出。 再从进气口处加入新油100—500ml持续转动5—10转以上，对内部进行清洗。照此操作3—5次，等到污油放清后，再装上放油塞，将真空泵放平从进气口及加油孔分别加入新油，换油即告完毕。 真空泵换油的是不适宜长久的开动电机，以避免使排气阀片跳动太过于剧烈和疲劳。严禁使用煤油、酒精和等对泵作非拆卸的清洗。