真空设备系统的简单介绍

真空设备系统的简单介绍 真空设备系统是由什么组成的呢？今天我们就来为大家简单介绍一下。 (1)主泵：在真空系统中，用于获得所需要真空度来满足特定工艺要求的真空泵，如真空镀膜机中的油扩散泵就是主泵。 (2)前级泵：用于维持某一真空泵前级压强低于其临界前级压强的真空泵。如罗茨泵前配置的旋片或滑阀泵就是前级泵。 (3)粗抽泵：从大气压下开始抽气，并将系统压力抽到另一真空泵开始工作的真空泵。如真空镀膜机中的滑阀泵，就是粗油泵。 (4)维持泵：在真空系统中，气量很小时，不能有效地利用前级泵。为此配置一种容量较小的辅助泵来维持主泵工作，此泵叫维持泵。如扩散泵出口处配一台小型旋片泵，就是维持泵。

磁控溅射镀膜技术介绍

磁控溅射镀膜技术介绍 磁控溅射镀膜设备是一种具有结构简单、电器控制稳定性好等优点的真空镀膜机，其工艺技术的选择对薄膜的性能具有非常重要的影响。 磁控溅射镀膜技术在陶瓷表面装饰中采用的工艺流程如下： 陶瓷片→超声清洗→装夹→抽本底真空→pla***a清洗→加热→通气→预溅射→抽本底真空→溅射(或多次溅射)→镀AF膜→破真空卸片→表面检验→性能测试→包装、入库。 以上工艺技术就是以磁控溅射镀膜设备为基础，选用合适的靶材和溅射工艺，制备出超硬的耐磨镀层，可以实现材料的高硬度、高耐磨、高耐划伤特性；同时，利用NCVM光学膜结构设计，设计出各层不同折射率材料，可以调配出任意颜色，使得陶瓷不仅硬度高、强度高，具备外观件时尚、美观的特点，而且不会屏蔽电磁信号。 磁控溅射镀膜设备配合NCVM工艺，能够实现对于陶瓷电子消费品的表面装饰处理，在保证陶瓷强度和硬度的同时，也能够提升其美观性和艺术性，更好地满足消费者的个性化需求。NCVM镀膜主要是在真空条件下，通过相应的物理化学手段来对金属材料进行转换，以粒子的方式吸附在材料表面，形成镀膜层，相比较普通真空电镀，NCVM的技术含量更高，加工流程也更加复杂。 磁控溅射镀超硬膜，结合NCVM光学镀膜技术，其镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性以及致密度高等特点，已在电子产品中获得大量应用。随着电子工业的迅猛发展，NCVM镀膜凭借本身优越的性能，在真空电镀技术领域脱颖而出，成为了电子消费品生产中的一项核心技术，在保证良好处理效果的同时，也能够消除电镀过程中***元素对于***的危害，对其环境污染问题进行解决。

光学镀膜机对于单片膜色不均匀产生的原因

光学镀膜机对于单片膜色不均匀产生的原因 光学镀膜机主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。 另外镜片被镜圈()边缘部遮挡、镜圈()脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。 改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。 改善对策： ㈠ 条件许可，用行星夹具; ㈡ 选用伞片平坦(R大)的机台; ㈢ 根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。 ㈣ 如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。 ㈤ 改善镜圈()，防止遮挡。 ㈥ 注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡 ㈦ 清洁镜圈() ㈧ 改善膜料蒸发状况。

真空镀膜机的工作原理

真空镀膜机的工作原理 在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的一个重要因素。因此，当评价某薄膜样品的性能时，需要检测该薄膜样品不同厚度下的性能。对于真空镀膜的情形，这往往需要进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题：首先，不同次生长的样品，仪器的状态不同，以至于影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度；其次，真空镀膜实验装取样品需要重新进行真空的获得，非常耗时。增加了生产和检测的成本。 因此，提供一种多功能磁控溅射镀膜系统，本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了、大面积有机光电器件和电路的制备。 多功能磁控溅射镀膜系统主要用途：用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特殊需求的功能薄膜。