光学真空镀膜机光学镀膜特点分类

光学真空镀膜机的光学镀膜特点有哪些呢？很多人很好奇，毕竟是真空镀膜行业的新技术，已经广泛用于数码科技，传统银镜，科学仪器，光通信，半导体，新能源等行业，获众多厂商认可，并大量投入使用。那么光学真空镀膜机光学镀膜特点分哪几种类型呢？下面为大家详细介绍一下：

主要的光学真空镀膜机光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等，它们在国民经济和建设中得到广泛的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍的减小;采用高反射膜比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高硅电池的效率和稳定性。

简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质膜层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。当一束单色光平面波入射到光学薄膜上时，在它的两个表面上发生多次反射和折射，反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律给出，反射光合折射光的振幅大小则有菲涅尔公式确定。

真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，随后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；

3、加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150℃~200℃之间；

4、Ar气分压，一般选择在0.01~1Pa范围内，以满足辉光放电的气压条件；

5、预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量；

6、溅射，Ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；

7、退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。

真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点：薄膜纯度高，致密，厚度均匀可控制，工艺重复性比较好，附着力强。

依据溅射源的不同，真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分，两者的主要区别在于气体放电方式不同，真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电，陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。

真空镀膜机光学镀膜加工上有什么要注意的吗?

段时间有一个采购光学镀膜机的客户签订协议的时候，咨询我这个问题，真空镀膜机光学镀膜加工有没有什么需要注意的地方。在签订协议完成的后一个环节，我们的销售培训了大量的设备相关的操作知识和注意事项，客户也学到了不少相关的知识。今天至成真空小编也再次详细和大家讲解一下真空镀膜机光学镀膜加工上应该注意的事项，加强大家的设备方面的知识和技能。

真空镀膜机光学镀膜加工上有什么要注意的吗？当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。

真空镀膜机增透膜增加透射光强度的实质是作为电磁波的光波在传播的过程中，在不同介质的分界面上，由于边界条件的不同，改变了其能量的分布。对于单层薄膜来说，当增透膜两边介质不同时，薄膜厚度为1/4波长的奇数倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)时（分别是介质1、2的折射率），才可以使入射光全部透过介质。一般光学透镜都是在空气中使用，对于一般折射率在1.5左右的光学玻璃，为使单层膜达到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；还要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一个波长。单层膜只对某一特定波长的电磁波增透，为使在更大范围内和更多波长实现增透，人们利用镀多层膜来实现。

人们对增透膜的利用有了很多的经验，发现了不少可以作为增透膜的材料；同时也掌握了不少***的镀膜技术，因此增透膜的应用涉及***、军事、太空探索等各行各业，为人类科技进步作出了重大贡献。